RESIST COMPOSITION AND METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN

• Main Authors: TODOROKI Seiji, ODASHIMA Rin, FUJINAMI Tetsuo, ISHII Shuichi, KATO Hiroki, KAWATANI Ryo, IKEDA Takuya, NGUYEN KhanhTin, ONISHI Koshi
• Format: Patent
• Language: English; French; Japanese
• Published: 22.12.2022
• Subjects: APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR; CHEMISTRY; CINEMATOGRAPHY; COMPOSITIONS BASED THEREON; ELECTROGRAPHY; HETEROCYCLIC COMPOUNDS; HOLOGRAPHY; MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVINGCARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS; MATERIALS THEREFOR; METALLURGY; ORGANIC CHEMISTRY; ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; ORIGINALS THEREFOR; PHOTOGRAPHY; PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES,e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTORDEVICES; PHYSICS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP

A resist composition which contains: a resin component (A1) having a constituent unit (a01) that contains an acid-cleavable group represented by formula (a01-r); and an acid generator component (B) that contains a compound (B0) represented by formula (b0). In the formulae, Ra01 , and Ra02 represent saturated aliphatic hydrocarbon groups which may combine with each other to form an alicyclic group; Ra03 to Ra05 represent aliphatic hydrocarbon groups or the like, two or more of which may combine with each other to form an alicyclic group; X0 represents an iodine atom or the like; Rm represents a hydroxy group or the like; nb1 represents an integer of 1 to 5; nb2 represents an integer of 0 to 4; 1 ≤ nb1 + nb2 ≤ 5; Yb0 represents a divalent linking group or the like; Vb0 represents an alkylene group or the like; R0 represents a fluorinated alkyl group having 1 to 5 carbon atoms, or the like; and Mm+ represents an m-valent organic cation. L'invention concerne une composition de réserve qui contient : un composant de résine (A1) ayant un motif constitutif (a01) qui contient un groupe clivable par un acide représenté par la formule (a01-r) ; et un composant générateur d'acide (B) qui contient un composé (B0) représenté par la formule (b0). Dans les formules, Ra01 , et Ra02 représentent des groupes hydrocarbonés aliphatiques saturés qui peuvent se combiner les uns avec les autres pour former un groupe alicyclique ; Ra03 à Ra05 représentent des groupes hydrocarbonés aliphatiques ou similaire, deux ou plus de ceux-ci pouvant se combiner les uns avec les autres pour former un groupe alicyclique ; X0 représente un atome d'iode ou similaire ; Rm représente un groupe hydroxy ou similaire ; nb1 représente un nombre entier de 1 à 5 ; nb2 représente un nombre entier de 0 à 4 ; 1 ≤ nb1 + nb2 ≤ 5 ; Yb0 représente un groupe de liaison divalent ou similaire ; Vb0 représente un groupe alkylène ou similaire ; R0 représente un groupe alkyle fluoré ayant de 1 à 5 atomes de carbone, ou similaire ; et Mm+ représente un cation organique de valence m. 式（ａ０１－ｒ）で表される酸解離性基を含む構成単位（ａ０１）を有する樹脂成分（Ａ１）と、式（ｂ０）で表される化合物（Ｂ０）を含む酸発生剤成分（Ｂ）とを含有するレジスト組成物。Ｒａ０１ 、Ｒａ０２は互いに結合して脂環式基を形成してもよい飽和脂肪族炭化水素基。Ｒａ０３～Ｒａ０５はその２つ以上が互いに結合して脂環式基を形成してもよい脂肪族炭化水素基等。Ｘ０はヨウ素原子等。Ｒｍはヒドロキシ基等。ｎｂ１は１～５の整数。ｎｂ２は０～４の整数。１≦ｎｂ１＋ｎｂ２≦５。Ｙｂ０は２価の連結基等。Ｖｂ０はアルキレン基等。Ｒ０は炭素原子数１～５のフッ素化アルキル基等。Ｍｍ＋はｍ価の有機カチオン。