NON-EVAPORABLE-GETTER COATING DEVICE, METHOD FOR MANUFACTURING NON-EVAPORABLE-GETTER-COATED CONTAINER/PIPE, AND NON-EVAPORABLE-GETTER-COATED CONTAINER/PIPE

• Main Authors: TANIMOTO Yasunori, OKANO Makoto
• Format: Patent
• Language: English; French; Japanese
• Published: 24.11.2022
• Subjects: BLASTING; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; CHEMISTRY; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATIONOR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY IONIMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; COATING METALLIC MATERIAL; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; HEATING; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION INGENERAL; LIGHTING; MECHANICAL ENGINEERING; METALLURGY; POSITIVE DISPLACEMENT MACHINES FOR LIQUIDS; PUMPS; PUMPS FOR LIQUIDS OR ELASTIC FLUIDS; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THESURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; WEAPONS

The purpose of the present invention is to provide a non-evaporable-getter coating device capable of coating a non-evaporable getter on an inner surface of a vacuum container or a vacuum pipe of various shapes and standards when used by being attached thereto. Provided are: a non-evaporable-getter coating device characterized by including a sputtering target having an internal space, a permanent magnet column disposed in the internal space area of the sputtering target and formed from multiple permanent magnets disposed in series, with the directions of the magnetic fields thereof being alternately arranged, and a flange to which the sputtering target and the permanent magnet column are fixed, wherein the ratio (LM/EDM) of the length LM of the permanent magnet to the external diameter EDM of the permanent magnet is 1.0 to 4.0, and the ratio (EDM/EDN) of the external diameter EDM of the permanent magnet to the external diameter EDN of the sputtering target is 0.3 to 0.8; a method for manufacturing a non-evaporable-getter-coated container and/or a non-evaporable-getter-coated pipe; and the non-evaporable-getter-coated container and/or the non-evaporable-getter-coated pipe. La présente invention a pour objectif de fournir un dispositif de revêtement de getter non évaporable capable de revêtir un getter non évaporable sur une surface interne d'un récipient sous vide ou d'un tuyau sous vide de diverses formes et normes lorsqu'il est utilisé en étant fixé à celui-ci. La solution selon l'invention porte sur : un dispositif de revêtement de getter non évaporable caractérisé en ce qu'il comprend une cible de pulvérisation cathodique présentant un espace interne, une colonne d'aimants permanents disposée dans la zone d'espace interne de la cible de pulvérisation et formée à partir de multiples aimants permanents disposés en série, dont les directions des champs magnétiques sont disposées en alternance, et une bride à laquelle la cible de pulvérisation cathodique et la colonne à aimants permanents sont fixées, le rapport (LM/EDM) de la longueur LM de l'aimant permanent à l'EDM de diamètre externe de l'aimant permanent est de 1,0 à 4,0, et le rapport (EDM/EDN) de l'EDM de diamètre externe de l'aimant permanent au diamètre externe EDN de la cible de pulvérisation est de 0,3 à 0,8 ; un procédé de fabrication d'un récipient revêtu d'un getter non évaporable et/ou d'un tuyau revêtu d'un getter non évaporable ; et le récipient revêtu de getter non évaporable et/ou le tuyau revêtu de getter non évaporable. 本発明は、様々な形状や規格の真空容器や真空配管に装着させて用いることで、その内表面に非蒸発型ゲッタコーティングを施すことが可能な、非蒸発型ゲッタコーティング装置を提供することを目的とする。内部空間を有するスパッタターゲットと、スパッタターゲットの内部空間の範囲内に設けられた、複数個の永久磁石を磁界の向きを互い違いにして直列に配置されてなる永久磁石柱と、スパッタターゲットと永久磁石柱とが固定されているフランジとを含み、永久磁石の長さＬＭの永久磁石の外径ＥＤＭに対する割合（ＬＭ／ＥＤＭ）が１．０～４．０であり、永久磁石の外径ＥＤＭのスパッタターゲットの外径ＥＤＮに対する割合（ＥＤＭ／ＥＤＮ）が０．３～０．８である、ことを特徴とする、非蒸発型ゲッタコーティング装置；非蒸発型ゲッタコーティング容器及び／又は非蒸発型ゲッタコーティング配管の製造方法；非蒸発型ゲッタコーティング容器及び／又は非蒸発型ゲッタコーティング配管。