SEMICONDUCTOR DEVICE
This semiconductor device comprises: a semiconductor chip having a main surface; and a main transistor including a first system transistor and a second system transistor formed on the main surface so as to be individually controlled. The first system transistor includes a first composite cell compos...
Saved in:
Main Authors | , , |
---|---|
Format | Patent |
Language | English French Japanese |
Published |
06.10.2022
|
Subjects | |
Online Access | Get full text |
Cover
Loading…
Summary: | This semiconductor device comprises: a semiconductor chip having a main surface; and a main transistor including a first system transistor and a second system transistor formed on the main surface so as to be individually controlled. The first system transistor includes a first composite cell composed of α (α≥2)-number of first unit transistors that are adjacently arranged on the main surface and that each have a first trench structure including a first electrode embedded in a first trench formed on the main surface. The second system transistor includes a second composite cell disposed adjacent to the first composite cell and composed of β (β≥2)-number of second unit transistors that are adjacently arranged on the main surface and that each have a second trench structure including a second electrode embedded in a second trench formed on the main surface.
L'invention concerne un dispositif à semi-conducteur comprenant : une puce à semi-conducteur ayant une surface principale ; et un transistor principal comprenant un premier transistor de système et un second transistor de système formés sur la surface principale de façon à être commandés individuellement. Le premier transistor de système comprend une première cellule composite composée de nombre α (α≥2) de premiers transistors unitaires qui sont disposés de manière adjacente sur la surface principale et qui ont chacun une première structure de tranchée comprenant une première électrode intégrée dans une première tranchée formée sur la surface principale. Le second transistor de système comprend une seconde cellule composite disposée adjacente à la première cellule composite et composée de nombre β (β≥2) de seconds transistors unitaires qui sont disposés de manière adjacente sur la surface principale et qui ont chacun une seconde structure de tranchée comprenant une seconde électrode intégrée dans une seconde tranchée formée sur la surface principale.
半導体装置は、主面を有する半導体チップと、個別制御されるように前記主面にそれぞれ形成された第1系統トランジスタおよび第2系統トランジスタを含むメイントランジスタと、を含み、前記第1系統トランジスタは、前記主面に形成された第1トレンチに埋設された第1電極を含む第1トレンチ構造をそれぞれ有し、前記主面に隣り合って配列されたα(α≧2)個の第1単位トランジスタによって構成された第1複合セルを含み、前記第2系統トランジスタは、前記主面に形成された第2トレンチに埋設された第2電極を含む第2トレンチ構造をそれぞれ有し、前記主面に隣り合って配列されたβ(β≧2)個の第2単位トランジスタによって構成され、前記第1複合セルに隣り合って配置された第2複合セルを含む。 |
---|---|
Bibliography: | Application Number: WO2022JP12840 |