FLUORINE-CONTAINING SILICA GLASS POWDER AND METHOD FOR PRODUCING FLUORINE-CONTAINING SILICA GLASS POWDER

• Main Authors: SHIMO, Isao, WATANABE, Hiromu
• Format: Patent
• Language: English; French; Japanese
• Published: 06.10.2022
• Subjects: CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES, OR VITREOUSENAMELS; CHEMISTRY; COMPOUNDS THEREOF; GLASS; INORGANIC CHEMISTRY; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS; MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES; METALLURGY; MINERAL OR SLAG WOOL; NON-METALLIC ELEMENTS; OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS, OR APPARATUS; OPTICS; PHYSICS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS,MINERALS OR SLAGS; SURFACE TREATMENT OF GLASS

To provide a fluorine-containing synthetic silica glass powder that has an adequate fluorine content and that is capable of suppressing any decrease in fluorine concentration caused by fluorine desorption from silica.　The aforementioned problem is solved by a silica glass powder containing fluorine, the fluorine-containing silica glass powder being such that particles having a particle diameter greater than 150 μm and no greater than 300 μm constitute 25 wt% or more of the whole. Additionally, as a method for producing the glass powder, there is provided, inter alia, a method for producing a fluorine-containing silica glass powder in which silicon oxide is pre-fired in the presence of SiF4 at a temperature of less than 1000°C to produce fluorine-containing silica, and in which the fluorine-containing silica is subsequently fired at a temperature of at least 1000°C and less than 1400°C to form a silica glass powder. L'invention concerne une poudre de verre de silice synthétique contenant du fluor, dont la teneur en fluor est adéquate et qui est en mesure de supprimer toute diminution de la concentration en fluor causée par la désorption du fluor de la silice.　Le problème susmentionné est résolu par une poudre de verre de silice contenant du fluor, la poudre de verre de silice contenant du fluor étant telle que les particules ayant un diamètre supérieur à 150 μm et non supérieur à 300 μm constituent 25 % en poids ou plus de l'ensemble. En outre, en tant que procédé de production de la poudre de verre, l'invention concerne, entre autres, un procédé de production d'une poudre de verre de silice contenant du fluor dans lequel l'oxyde de silicium est précuit en présence de SiF4 à une température inférieure à 1000 °C pour produire de la silice contenant du fluor, la silice contenant du fluor étant ensuite cuite à une température d'au moins 1000 °C et inférieure à 1400 °C pour former une poudre de verre de silice. 十分なフッ素含有量であり、かつ、シリカからのフッ素脱離によるフッ素濃度低下を抑制し得るフッ素含有合成シリカガラス粉を提供する。　フッ素を含有するシリカガラス粉であって、粒子径１５０μｍ超３００μｍ以下の粒子が、全体の２５ｗｔ％以上である、フッ素含有シリカガラス粉により課題を解決する。また、当該ガラス粉の製造方法として、ケイ素酸化物を１０００℃未満の温度で、ＳｉＦ４存在下で予備焼成し、フッ素含有シリカとした後、１０００℃以上１４００℃未満の温度で焼成してシリカガラス粉とする、フッ素含有シリカガラス粉の製造方法、等が提供される。