CHARGED PARTICLE BEAM DEVICE

• Main Authors: NAKANO Tomohito, YOKOSUKA Toshiyuki, KOTSUJI Hideyuki, KAWANO Hajime, TERAO Naho
• Format: Patent
• Language: English; French; Japanese
• Published: 09.09.2022
• Subjects: BASIC ELECTRIC ELEMENTS; ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS; ELECTRICITY

The purpose of the present invention is to provide a charged particle beam device that can specify irradiation conditions for primary charged particles that can obtain a desired charged state without adjusting the acceleration voltage. The charged particle beam device according to the present invention specifies the irradiation conditions for a charged particle beam in which the charged state of a sample is switched between a positive charge and a negative charge, and adjusts the irradiation conditions according to the relationship between the specified irradiation conditions and the irradiation conditions when an observation image of the sample has been acquired (see fig. 8). L'objectif de la présente invention est de pourvoir à un dispositif à faisceau de particules chargées qui puisse spécifier des conditions d'irradiation pour des particules chargées primaires qui permettent d'obtenir un état chargé souhaité sans ajuster la tension d'accélération. Le dispositif à faisceau de particules chargées selon la présente invention spécifie les conditions d'irradiation pour un faisceau de particules chargées dans lesquelles l'état chargé d'un échantillon est commuté entre une charge positive et une charge négative, et ajuste les conditions d'irradiation en fonction de la relation entre les conditions d'irradiation spécifiées et les conditions d'irradiation lorsqu'une image d'observation de l'échantillon a été acquise. 本発明は、加速電圧を調整することなく所望の帯電状態を得ることができる１次荷電粒子の照射条件を特定することができる荷電粒子線装置を提供することを目的とする。本発明に係る荷電粒子線装置は、試料の帯電状態が正帯電と負帯電との間で入れ替わる荷電粒子ビームの照射条件を特定し、前記特定した照射条件と、試料の観察画像を取得したときにおける前記照射条件との間の関係にしたがって、前記照射条件を調整する（図８参照）。