ALKALI-SOLUBLE RESIN, PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION, CURED PRODUCT, AND IMAGE DISPLAY DEVICE

• Main Authors: MORIMOTO, Ryuki, ITO, Sachiho, AWA, Shigeki
• Format: Patent
• Language: English; French; Japanese
• Published: 11.08.2022
• Subjects: APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR; CHEMISTRY; CINEMATOGRAPHY; COMPOSITIONS BASED THEREON; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY; MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVINGCARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS; MATERIALS THEREFOR; METALLURGY; ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; ORIGINALS THEREFOR; PHOTOGRAPHY; PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES,e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTORDEVICES; PHYSICS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP

A purpose of the present invention is to provide: an alkali-soluble resin able to form a cured film having excellent development adhesiveness and resolution even if the film is thick; and a photosensitive resin composition that contains the alkali-soluble resin. Another purpose of the present invention is to provide a photosensitive resin composition which, in addition to the characteristics mentioned above, can be developed in a short time even if a weakly alkaline developing solution is used. This alkali-soluble resin contains one or more types of repeating unit X represented by general formula (1). (In the formula, R1 is hydrogen or a methyl group, R2 is a linking group having one or more carbon atoms, R3 is an organic group which is represented by general formula (2) and bonds to a carbon atom in the linking group, and R4 is a hydroxyl group or organic group which bonds to a carbon atom in the linking group.) (In the formula, R5 is an organic group which includes a heteroatom and which has 3-8 carbon atoms in the main structure, or an organic group which includes a carboxyl group and which has 2-7 carbon atoms in the main structure.) L'objet de la présente invention est de fournir : une résine soluble dans les alcalis permettant de former un film durci présentant d'excellentes propriétés d'adhérence du développement et de résolution même si le film est épais ; et une composition de résine photosensible qui contient la résine soluble dans les alcalis. Un autre objet de la présente invention est de fournir une composition de résine photosensible qui, en plus des caractéristiques mentionnées ci-dessus, peut être développée en un court laps de temps même si une solution de développement faiblement alcaline est utilisée. Cette résine soluble dans les alcalis contient un ou plusieurs types de motifs de répétition X représentés par la formule générale (1). (Dans la formule, R1 représente un atome d'hydrogène ou un groupe méthyle, R2 représente un groupe de liaison comprenant un ou plusieurs atomes de carbone, R3 représente un groupe organique qui est représenté par la formule générale (2) et se lie à un atome de carbone dans le groupe de liaison, et R4 représente un groupe hydroxyle ou un groupe organique qui se lie à un atome de carbone dans le groupe de liaison). (Dans la formule, R5 représente un groupe organique qui comprend un hétéroatome et qui possède de 3 à 8 atomes de carbone dans la structure principale, ou un groupe organique qui comprend un groupe carboxyle et qui possède de 2 à 7 atomes de carbone dans la structure principale). 本発明は、厚膜化した場合でも現像密着性及び解像度に優れる硬化膜を形成可能なアルカリ可溶性樹脂、及び前記アルカリ可溶性樹脂を含有する感光性樹脂組成物を提供することを目的とする。また本発明は、前記特性に加え、弱アルカリ性現像液を用いた場合でも短時間で現像可能な感光性樹脂組成物を提供することを目的とする。本発明のアルカリ可溶性樹脂は、下記一般式（１）で表される繰り返し構造単位Ｘを１種以上含むものである。 （式中、Ｒ１は水素又はメチル基であり、Ｒ２は炭素数が１以上の連結基であり、Ｒ３は前記連結基の炭素原子に結合する下記一般式（２）で表される有機基であり、Ｒ４は前記連結基の炭素原子に結合するヒドロキシ基又は有機基である。） （式中、Ｒ５は母体の炭素数が３～８であり、かつヘテロ原子を含む有機基、又は母体の炭素数が２～７であり、かつカルボキシ基を有する有機基である。）