POSITIVE-ACTING PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION
[Problem] To obtain a positive-acting photosensitive resin composition which is used for liquid-crystal display elements, organic EL display elements, etc., gives cured films having surfaces with high water repellency and high oil repellency, leaves little residue after patterning even with a high-c...
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Format | Patent |
Language | English French Japanese |
Published |
11.08.2022
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Summary: | [Problem] To obtain a positive-acting photosensitive resin composition which is used for liquid-crystal display elements, organic EL display elements, etc., gives cured films having surfaces with high water repellency and high oil repellency, leaves little residue after patterning even with a high-concentration developing solution, and can form a cured-film image that is reduced in outgassing during high-temperature burning. [Solution] This positive-acting photosensitive resin composition comprises (A) component, which is a polymer having a liquid-repellent group, (B) component, which is an alkali-soluble resin having an N-hydroxyphenyl group, (C) component, which is a 1,2-quinonediazide compound, (D) component, which is a crosslinking agent, and (E) a solvent.
La présente invention vise à fournir une composition de résine photosensible à action positive qui est utilisée pour des éléments d'affichage à cristaux liquides, des éléments d'affichage EL organiques, etc., qui donne des films durcis ayant des surfaces présentant un caractère hydrofuge élevé et un caractère oléofuge élevé, laisse peu de résidus après formation de motif même avec une solution de développement à haute concentration, et peut former une image de film durci présentant un dégazage réduit pendant la combustion à haute température. L'invention concerne par conséquent une composition de résine photosensible à action positive qui comprend (A) un composant, qui est un polymère ayant un groupe repoussant les liquides, (B) un composant, qui est une résine soluble dans les alcalis ayant un groupe N-hydroxyphényle, (C) un composant, qui est un composant 1,2-quinonediazide, (D) un composant, qui est un agent de réticulation, et (E) un solvant.
【課題】本発明は液晶表示素子、有機EL表示素子等に使用され、硬化膜表面に高い撥水性と高い撥油性を有し、高濃度現像液が使用されてもパターン形成後の残渣が少なく、高温焼成時のアウトガス発生が少ない硬化膜の画像を形成可能なポジ型感光性樹脂組成物を得ることである。 【解決手段】本発明のポジ型感光性樹脂組成物は、(A)成分:撥液性基を有する重合体、(B)成分:N-ヒドロキシフェニル基を有するアルカリ可溶性樹脂、(C)成分:1,2-キノンジアジド化合物、(D)成分:架橋剤及び(E)溶剤を含有するポジ型感光性樹脂組成物である。 |
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Bibliography: | Application Number: WO2022JP03127 |