MONITORING DEVICE AND MONITORING METHOD
Provided is a technology for monitoring the behavior of a control system with high accuracy. One embodiment of the present invention pertains to a monitoring device that includes: an acquisition unit that acquires an observation value regarding the behavior of a control system, the observation value...
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Format | Patent |
Language | English French Japanese |
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30.06.2022
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Summary: | Provided is a technology for monitoring the behavior of a control system with high accuracy. One embodiment of the present invention pertains to a monitoring device that includes: an acquisition unit that acquires an observation value regarding the behavior of a control system, the observation value being sampled while the system is being operated; and an evaluation unit that determines a fluctuation range of the observation value with respect to the control system behavior, and that evaluates whether the fluctuation range of the observation value satisfies specifications regarding the observation value.
L'invention concerne une technologie permettant de surveiller le comportement d'un système de commande avec une grande précision. Un mode de réalisation de la présente invention se rapporte à un dispositif de surveillance qui comprend : une unité d'acquisition qui acquiert une valeur d'observation concernant le comportement d'un système de commande, la valeur d'observation étant échantillonnée pendant que le système est exploité ; et une unité d'évaluation qui détermine une plage de fluctuation de la valeur d'observation par rapport au comportement du système de commande, et qui évalue si la plage de fluctuation de la valeur d'observation satisfait des spécifications concernant la valeur d'observation.
制御システムの挙動を高精度にモニタリングするための技術を提供することである。本発明の一態様は、制御システム挙動に関してシステム動作中にサンプリングした観測値を取得する取得部と、前記制御システムの挙動に対する前記観測値の変動範囲を決定し、前記観測値の変動範囲が前記観測値に関する仕様を充足するか判定する判定部と、を有するモニタリング装置に関する。 |
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Bibliography: | Application Number: WO2021JP47731 |