ATOMIC LAYER DEPOSITION DEVICE AND ATOMIC LAYER DEPOSITION METHOD

• Main Authors: ABE, Ayaka, HAGIWARA, Takayuki, MOTODA, Soichiro, KAMEDA, Naoto, SHINO, Tatsunori
• Format: Patent
• Language: English; French; Japanese
• Published: 09.06.2022
• Subjects: BASIC ELECTRIC ELEMENTS; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; CHEMISTRY; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATIONOR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY IONIMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; COATING METALLIC MATERIAL; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; ELECTRIC SOLID STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; ELECTRICITY; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION INGENERAL; METALLURGY; SEMICONDUCTOR DEVICES; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THESURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION

A gas supplying unit (4), which supplies gas to the inside of a chamber (3) capable of accommodating a film deposition target so as to be freely taken out or put in, has: a feedstock gas supply line (L2) that supplies a feedstock gas to the inside of the chamber (3); an ozone gas supply line (L1) that supplies at least 80 vol% ozone gas to the inside of the chamber (3); and an inert gas supply line (L3) that supplies an inert gas to the inside of the chamber (3). The ozone gas supply line (L1) is provided with: an ozone gas buffer section (L12) that, via the opening and closing of a shutoff valve (V1) provided to the ozone gas supply line (L1), accumulates and freely seals the ozone gas inside the ozone gas supply line (L1) and freely supplies the accumulated ozone gas to the inside of the chamber (3); and an ozone gas buffer section pressure gauge (PL1) that measures the gas pressure inside the ozone gas buffer section (L12). Unité d'alimentation en gaz (4), qui fournit du gaz à l'intérieur d'une chambre (3) apte à recevoir une cible de dépôt de film d'une façon permettant de mettre en place ou de retirer librement cette dernière, comprend : une ligne d'alimentation en gaz de charge d'alimentation (L2) qui fournit un gaz de charge d'alimentation à l'intérieur de la chambre (3) ; une conduite d'alimentation en ozone gazeux (L1) qui fournit au moins 80 % en volume d'ozone gazeux à l'intérieur de la chambre (3) ; et une conduite d'alimentation en gaz inerte (L3) qui fournit un gaz inerte à l'intérieur de la chambre (3). La conduite d'alimentation en ozone gazeux (L1) est pourvue : d'une zone tampon d'ozone gazeux (L12) qui, par ouverture et fermeture d'une vanne d'arrêt (V1) disposée sur la ligne d'alimentation en ozone gazeux (L1), accumule et renferme librement l'ozone gazeux à l'intérieur de la ligne d'alimentation en ozone gazeux (L1) et fournit librement l'ozone gazeux accumulé à l'intérieur de la chambre (3) ; et une jauge de pression de zone tampon d'ozone gazeux (PL1) qui mesure la pression gazeuse à l'intérieur de la zone tampon d'ozone gazeux (L12). 被成膜対象物を出し入れ自在に収容可能なチャンバ（３）内にガスを供給するガス供給部（４）において、原料ガスをチャンバ（３）内に供給する原料ガス供給ライン（Ｌ２）と、８０体積％以上のオゾンガスをチャンバ（３）内に供給するオゾンガス供給ライン（Ｌ１）と、不活性ガスをチャンバ（３）内に供給する不活性ガス供給ライン（Ｌ３）と、を有しているものとする。オゾンガス供給ライン（Ｌ１）は、オゾンガス供給ライン（Ｌ１）に設けられた開閉弁（Ｖ１）の開閉により、当該オゾンガス供給ライン（Ｌ１）内のオゾンガスを蓄積して封止自在、かつ当該蓄積したオゾンガスをチャンバ（３）内に供給自在なオゾンガスバッファ部（Ｌ１２）と、オゾンガスバッファ部（Ｌ１２）内のガス圧力を計測するオゾンガスバッファ部圧力計（ＰL1）と、を備える。