METHOD AND DEVICE FOR MEASURING ACTUATORS IN A PROJECTION EXPOSURE APPARATUS FOR SEMICONDUCTOR LITHOGRAPHY

• Main Authors: MANGER, Matthias, AWAD, Mohammad, RIEF, Annika, KELLER, Bastian, SEITZ, Daniel, RAAB, Markus, VOGLER, Alexander
• Format: Patent
• Language: English; French
• Published: 21.04.2022
• Subjects: APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR; CINEMATOGRAPHY; ELECTRICITY; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY; MATERIALS THEREFOR; OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS, OR APPARATUS; OPTICS; ORIGINALS THEREFOR; PHOTOGRAPHY; PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES,e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTORDEVICES; PHYSICS

The invention relates to a method for measuring an actuator (38.2) in a projection exposure apparatus (1, 21) for semiconductor lithography, in particular in a projection lens (9, 27), wherein two actuators (38.1, 38.2, 38.3) are mechanically coupled to one another, comprising the following method steps: - driving and deflecting a first actuator (38.2) with a constant control signal and deflecting a further actuator (38.1, 38.3) by way of the mechanical coupling, - determining the capacitance of the further actuator (38.1, 38.3), which was deflected by way of the coupling. Furthermore, the invention relates to a projection exposure apparatus (1, 21) and a projection lens (9, 27) for semiconductor lithography, the latter thereof comprising a device for measuring at least two mechanically coupled actuators (38.1, 38.2, 38.3), comprising a control device (40) and a measuring device (43), wherein the measuring device (43) is configured to determine the capacitance of at least one actuator (38.1, 38.2, 38.3). L'invention concerne un procédé de mesure d'un actionneur (38.2) dans un appareil d'exposition par projection (1, 21) pour la lithographie à semi-conducteurs, en particulier dans une lentille de projection (9, 27), deux actionneurs (38.1, 38.2, 38.3) étant accouplés mécaniquement l'un à l'autre, comprenant les étapes de procédé suivantes : - entraînement et déviation d'un premier actionneur (38.2) avec un signal de commande constant et déviation d'un autre actionneur (38.1, 38.3) par l'intermédiaire du couplage mécanique, - détermination de la capacité de l'autre actionneur (38.1, 38.3), qui a été dévié par l'intermédiaire du couplage. En outre, l'invention concerne un appareil d'exposition par projection (1, 21) et une lentille de projection (9, 27) pour la lithographie à semi-conducteurs, ce dernier comprenant un dispositif de mesure d'au moins deux actionneurs couplés mécaniquement (38.1, 38.2, 38.3), comprenant un dispositif de commande (40) et un dispositif de mesure (43), le dispositif de mesure (43) étant conçu pour déterminer la capacité d'au moins un actionneur (38.1, 38.2, 38.3).