CURABLE COMPOSITION AND CURED PRODUCT THEREOF
Provided is a curable composition whereby it is possible to form a coating film having excellent adhesion to the surface of a substrate, hardness, scratch resistance, and chemical resistance. This curable composition contains a polyol compound (A) having an isocyanurate skeleton, an acrylic compound...
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Format | Patent |
Language | English French Japanese |
Published |
14.04.2022
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Summary: | Provided is a curable composition whereby it is possible to form a coating film having excellent adhesion to the surface of a substrate, hardness, scratch resistance, and chemical resistance. This curable composition contains a polyol compound (A) having an isocyanurate skeleton, an acrylic compound (B) having a hydroxyl group, and a polyisocyanate compound (C) having an isocyanurate skeleton and an isocyanate group other than the isocyanurate skeleton. The polyol compound (A) preferably includes a compound (a) represented by formula (1). R1 to R3 in the formula are the same or different from each other and are a group represented by formula (1a).
L'invention concerne une composition durcissable au moyen de laquelle il est possible de former un film de revêtement ayant une excellente adhérence à la surface d'un substrat ainsi qu'une dureté, une résistance aux rayures et une résistance chimique excellentes. Cette composition durcissable contient un composé polyol (A) ayant un squelette isocyanurate, un composé acrylique (B) ayant un groupe hydroxyle, et un composé polyisocyanate (C) ayant un squelette isocyanurate et un groupe isocyanate autre que le squelette isocyanurate. Le composé polyol (A) comprend de préférence un composé (a) représenté par la formule (1). Dans la formule, R1 à R3 sont identiques ou différents les uns des autres et sont un groupe représenté par la formule (1a).
基材表面への密着性、硬度、耐擦傷性、並びに薬剤耐性を有する被膜を形成可能な硬化性組成物を提供する。 本開示の硬化性組成物は、イソシアヌレート骨格を有するポリオール化合物(A)と、水酸基を有するアクリル化合物(B)と、イソシアヌレート骨格及びイソシアヌレート骨格以外のイソシアネート基を有するポリイソシアネート化合物(C)とを含む。 前記ポリオール化合物(A)は、下記式(1)で表される化合物(a)を含むことが好ましい。式中のR1~R3は、同一又は異なって、下記式(1a)で表される基である。 |
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Bibliography: | Application Number: WO2021JP36830 |