BLACK QUARTZ GLASS AND METHOD FOR MANUFACTURING SAME

• Main Authors: SAKURAI Manabu, KUNIYOSHI Minoru
• Format: Patent
• Language: English; French; Japanese
• Published: 07.04.2022
• Subjects: CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES, OR VITREOUSENAMELS; CHEMISTRY; GLASS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS; MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES; METALLURGY; MINERAL OR SLAG WOOL; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS,MINERALS OR SLAGS; SURFACE TREATMENT OF GLASS

The present invention pertains to: black quartz glass containing 0.5-10 mass% of Si and 0.1-5 mass% of SiO, with the remainder consisting of SiO2, and having an SCE reflectance of at most 10% at a wavelength of 350-750 nm; a method for manufacturing black quartz glass, the method comprising press-molding powders obtained by mixing and consolidating 0.5-10 mass% of a Si powder and 0.1-5 mass% of a SiO powder with (1) fumed silica, (2) mixed powders of fumed silica and synthetic silica powders, or (3) mixed powders of fumed silica, synthetic silica powders, and spherical silica, and heating the press-molded product in air to sinter the fumed silica; and a product including a black quartz glass member using said black quartz glass. The present invention provides: black quartz glass which has excellent light shielding properties, is unlikely to cause contamination during a use process, and has sufficient uniformity of color even if the size thereof is increased, and with which a large-sized ingot can be formed; a method by which said black quartz glass can be manufactured even in the form of a large-sized ingot with excellent productivity; and a product made using said black quartz glass. L'invention concerne un verre de quartz noir qui comprend ０,５ à １０% en masse d'un Si et ０,１ à ５% en masse d'un SiO, le reste étant constitué d'un ＳｉＯ２, et qui présente une réflectance en mode composante spéculaire exclue (SCE) inférieure ou égale à 10% à une longueur d'onde comprise entre ３５０ｎｍ et ７５０ｎｍ. En outre, l'invention concerne un procédé de fabrication de verre de quartz noir qui inclut une étape au cours de laquelle une poudre obtenue par mélange et compactage de ０,５ à １０% en masse d'une poudre de Si et de ０,１ à ５% en masse d'une poudre de ＳｉＯ dans (1) une silice sublimée, ou (2) une poudre mélangée à base de silice sublimée et poudre de silice synthétique, ou (3) une poudre mélangée à base de silice sublimée, poudre de silice synthétique et silice sphérique, est moulée par compression, le produit moulé par compression est chauffé dans l'atmosphère, et la silice sublimée est frittée. L'invention concerne également un article qui contient un élément en verre de quartz noir mettant en œuvre ledit verre de quartz noir. Plus précisément, l'invention fournit un verre de quartz noir d'une excellente opacité, ne présentant aucun risque de pollution lors d'un processus de mise en œuvre, doté d'une uniformité de couleur suffisante y compris en cas d'agrandissement, et permettant l'élaboration de lingots de grande taille. L'invention fournit également un procédé permettant de fabriquer selon une excellente productivité ce verre de quartz noir, y compris en lingots de grande taille, et un article produit à l'aide dudit verre de quartz noir. 本発明は、Ｓｉを０．５～１０質量％およびＳｉＯを０．１～５質量％含有し、残部がＳｉＯ２であり、波長３５０ｎｍ～７５０ｎｍにおけるＳＣＥ反射率が１０％以下である黒色石英ガラス、（１）ヒュームドシリカ、または（２）ヒュームドシリカと合成シリカ粉末の混合粉末、または（３）ヒュームドシリカと合成シリカ粉末および球状シリカの混合粉末に０．５～１０質量％のＳｉ粉末および０．１～５質量％のＳｉＯ粉末を混合圧密して得た粉末を加圧成型し、加圧成型品を大気中で加熱して、ヒュームドシリカを焼結させること含む、黒色石英ガラスの製造方法、及び上記黒色石英ガラスを用いた黒色石英ガラス部材を含む製品に関する。 本発明は、遮光性に優れ、使用工程において汚染発生のおそれがなく、大型化しても色の均一性が十分であり、大型インゴットが作成可能な黒色石英ガラス、この黒色石英ガラスを、大型のインゴットであっても、優れた生産性で製造できる方法、上記黒色石英ガラスを用いて作製した製品を提供する。