FAR-INFRARED TRANSMITTING MEMBER, AND METHOD FOR MANUFACTURING FAR-INFRARED TRANSMITTING MEMBER

According to the present invention, the reflection of far-infrared rays is suppressed, as appropriate, and an antireflection film is formed, as appropriate. A far-infrared transmitting member (20) includes: a substrate (30) that transmits far-infrared rays; and a functional film (32) that is formed...

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Main Authors MASHIMO, Takahiro, KUBONO, Manaya, MAESHIGE, Kazunobu, OYAMA, Takuji, YASUI, Yoji, AOMINE, Nobutaka
Format Patent
LanguageEnglish
French
Japanese
Published 03.03.2022
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Summary:According to the present invention, the reflection of far-infrared rays is suppressed, as appropriate, and an antireflection film is formed, as appropriate. A far-infrared transmitting member (20) includes: a substrate (30) that transmits far-infrared rays; and a functional film (32) that is formed on the substrate (30), has an oxide as a main component, and comprises a low-refractive-index layer (34) having a refractive index of at most 1.5 for light having a wavelength of 10 μm, wherein the low-refractive-index layer (34) contains MgO as a main component, and has a MgO content of 50 mass% to 100 mass% with respect to the whole of the low-refractive-index layer. Selon la présente invention, la réflexion de rayons dans l'infrarouge lointain est supprimée, le cas échéant, et un film antireflet est formé, le cas échéant. La présente invention concerne un élément à émission dans l'infrarouge lointain (20) qui comprend : un substrat (30) qui émet des rayons dans l'infrarouge lointain ; et un film fonctionnel (32) qui est formé sur le substrat (30), a un oxyde comme composant principal, et comprend une couche à faible indice de réfraction (34) ayant un indice de réfraction d'au plus 1,5 pour une lumière ayant une longueur d'onde de 10 µm, la couche à faible indice de réfraction (34) contenant du MgO comme composant principal, et ayant une teneur en MgO de 50 % en masse à 100 % en masse par rapport à l'ensemble de la couche à faible indice de réfraction. 遠赤外線の反射を適切に抑制し、かつ、反射防止膜を適切に形成する。遠赤外線透過部材(20)は、遠赤外線を透過する基材(30)と、基材(30)上に形成されて、酸化物を主成分として、10μmの波長の光に対する屈折率が、1.5以下である低屈折率層(34)を含む機能膜(32)と、を含み、低屈折率層(34)は、MgOを主成分とし、MgOの含有率が、低屈折率層(34)の全体に対して、50質量%以上100質量%以下である。
Bibliography:Application Number: WO2021JP30619