DEVICE AND FILM THICKNESS VARIATION INSPECTION METHOD

Provided is a device for inspecting a film 11 that is formed on the surface of a support 10 and that has a transmission band in the wavelength range of 400-750 nm, said device comprising a stage 100 that holds the support 10, a light irradiation system 200 that irradiates the film 11 with light, and...

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Main Author YOSHIBAYASHI Mitsuji
Format Patent
LanguageEnglish
French
Japanese
Published 03.02.2022
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Summary:Provided is a device for inspecting a film 11 that is formed on the surface of a support 10 and that has a transmission band in the wavelength range of 400-750 nm, said device comprising a stage 100 that holds the support 10, a light irradiation system 200 that irradiates the film 11 with light, and an imaging device 300 that receives light reflected by the film 10. The light irradiation system 200 has a light source 201 and a band-pass filter 221. The band-pass filter 221 has a transmission band tb1 that has a transmissivity of not less than 50% and a band width of not less than 30 nm, and a light blocking band sb1 that has a transmissivity of less than 50% and a band width of not less than 80 nm. The transmission band tb1 includes wavelengths in the transmission band of the film. The transmission band tb1 and the light blocking band sb1 are each within the wavelength range of 400-750 nm. Also provided is a film thickness variation inspection method. L'invention concerne un dispositif pour inspecter un film 11 qui est formé sur la surface d'un support 10 et qui présente une bande de transmission dans la plage de longueurs d'onde de 400 à 750 nm, ledit dispositif comprenant une platine 100 qui maintient le support 10, un système d'irradiation de lumière 200 qui irradie le film 11 avec de la lumière, et un dispositif d'imagerie 300 qui reçoit la lumière réfléchie par le film 10. Le système d'irradiation de lumière 200 comporte une source de lumière 201 et un filtre passe-bande 221. Le filtre passe-bande 221 comporte une bande de transmission tb1 qui présente un coefficient de transmission supérieure à 50 % et une largeur de bande supérieure à 30 nm, et une bande de blocage de la lumière sb1 qui présente un coefficient de transmission inférieure à 50 % et une largeur de bande supérieure à 80 nm. La bande de transmission tb1 comprend des longueurs d'onde dans la bande de transmission du film. La bande de transmission tb1 et la bande de blocage de la lumière sb1 se situent chacune dans la gamme de longueurs d'onde de 400 à 750 nm. L'invention concerne également un procédé d'inspection de la variation de l'épaisseur d'un film. 支持体10の表面に形成された、波長400~750nmの範囲内に透過帯域が存在する膜11を検査する装置であって、支持体10を保持するステージ100と、膜11に光を照射する光照射システム200と、膜10からの反射光を受光する撮像装置300と、を有する。光照射システム200は、光源201およびバンドパスフィルタ221を有し、バンドパスフィルタ221は、透過率が50%以上で帯域幅が30nm以上である透過帯域tb1と、透過率が50%未満で帯域幅が80nm以上である遮光帯域sb1とを有し、透過帯域tb1は膜の透過帯域の波長を含み、透過帯域tb1および遮光帯域sb1とをそれぞれ波長400~750nmの範囲内に有するフィルタである装置。および、膜厚ムラの検査方法。
Bibliography:Application Number: WO2021JP27484