MODIFIED VINYL ALCOHOL POLYMER, AQUEOUS SOLUTION, AND METHOD FOR PRODUCING MODIFIED VINYL ALCOHOL POLYMER

• Main Author: NII Shinsuke
• Format: Patent
• Language: English; French; Japanese
• Published: 06.01.2022
• Subjects: CHEMISTRY; COMPOSITIONS BASED THEREON; COMPOSITIONS OF MACROMOLECULAR COMPOUNDS; MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVINGCARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS; METALLURGY; ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP

The present invention provides a modified vinyl alcohol polymer which has excellent water solubility, excellent viscosity stability of an aqueous solution, and excellent film water resistance. A modified vinyl alcohol polymer which has a group represented by formula (1). In formula (1), R1 represents an alkyl group having from 1 to 8 carbon atoms, an alkoxy group that has an alkyl group having from 1 to 8 carbon atoms, a hydroxyl group or a group represented by -OM; M represents an alkali metal or an alkaline earth metal; R2 represents a group containing a siloxane structure; and n represents an integer from 1 to 3. L'invention concerne un polymère d'alcool vinylique modifié, excellent en termes d'hydrosolubilité, et dont la solution aqueuse présente une stabilité à la viscosité supérieure et une très haute résistance à l'eau lorsqu'elle est sous forme de film. Ce polymère d'alcool vinylique modifié possède un groupe représenté par la formule (1). Dans cette formule (1), R1 représente un groupe alkyle dont le nombre d'atomes de carbone est compris entre 1 et 8, un groupe alcoxy possédant un group alkyle dont le nombre d'atomes de carbone est compris entre 1 et 8, un groupe hydroxyle ou un groupe représenté par -OM. M représente un métal alcalin ou un métal terreux alcalin. R2 représente un groupe contenant une structure siloxane. n représente un nombre entier entre 1 et 3. 水溶性、水溶液の粘度安定性及びフィルム耐水性に優れる変性ビニルアルコール系重合体を提供する。下記式（１）で表される基を有する変性ビニルアルコール系重合体。式（１）中、Ｒ１は、炭素数１～８のアルキル基、炭素数１～８のアルキル基を有するアルコキシ基、水酸基、又は－ＯＭで表される基である。Ｍは、アルカリ金属又はアルカリ土類金属である。Ｒ２は、シロキサン構造を含む基である。ｎは、１～３の整数である。