SYSTEMS, DEVICES, AND METHODS FOR ION BEAM MODULATION

• Main Authors: VEKSELMAN, Vladislav, KOREPANOV, Andrey, DUNAEVSKY, Alexander
• Format: Patent
• Language: English; French
• Published: 01.09.2022
• Subjects: ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; ELECTRICITY; PLASMA TECHNIQUE; PRODUCTION OF ACCELERATED ELECTRICALLY-CHARGED PARTICLES OR OFNEUTRONS; PRODUCTION OR ACCELERATION OF NEUTRAL MOLECULAR OR ATOMICBEAMS

Embodiments of systems, devices, and methods relate to an ion beam source system. An ion source is configured to provide a negative ion beam to a tandem accelerator system downstream of the ion source, and a modulator system connected to an extraction electrode of the ion source is configured to bias the extraction electrode for a duration sufficient to maintain acceleration voltage stability of the tandem accelerator system. Selon des modes de réalisation, l'invention concerne des systèmes, des dispositifs et des procédés se rapportant à un système source de faisceau d'ions. Une source d'ions est configurée pour fournir un faisceau d'ions négatifs à un système accélérateur tandem en aval de la source d'ions, et un système modulateur connecté à une électrode d'extraction de la source d'ions est configuré pour polariser l'électrode d'extraction pendant une durée suffisante pour maintenir la stabilité de la tension d'accélération du système accélérateur tandem.