SUBSTRATE PROCESSING SYSTEM AND METHOD FOR INSPECTING SUBSTRATE PROCESSING SYSTEM

• Main Authors: JUNG, Gu Hyun, HWANG, Chul Joo, KIM, Jong Chul, JUNG, Jin An, BYEON, Yeong Seop
• Format: Patent
• Language: English; French; Korean
• Published: 02.12.2021
• Subjects: BASIC ELECTRIC ELEMENTS; ELECTRIC SOLID STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; ELECTRICITY; SEMICONDUCTOR DEVICES

A substrate processing system according to an embodiment of the present invention comprises: a transfer chamber having an inner space; a transfer device having a support unit provided in the transfer chamber so that the substrate can be supported and moved; and a first inspection device which has a first detection unit provided in the transfer chamber and/or the transfer device, and which uses data acquired by the first detection unit to determine whether the support unit has moved to a preset first position, and thus determines the operating state of the transfer device. Therefore, the problem in which a substrate is loaded on a loading stand in a wrong or abnormal state during substrate processing can be reduced so that the substrate can be loaded at the right position of the loading stand during actual processing. Thus, a defect caused by the loading position of a substrate can be reduced and substrate processing quality can be improved. Un système de traitement de substrat selon un mode de réalisation de la présente invention comprend : une chambre de transfert ayant un espace interne ; un dispositif de transfert ayant une unité de support disposée dans la chambre de transfert de telle sorte que le substrat puisse être supporté et déplacé ; et un premier dispositif d'inspection qui comporte une première unité de détection disposée dans la chambre de transfert et/ou le dispositif de transfert, et qui utilise des données acquises par la première unité de détection pour déterminer si l'unité de support s'est déplacée vers une première position prédéfinie, et détermine ainsi l'état de fonctionnement du dispositif de transfert. Par conséquent, le problème dans lequel un substrat est mal placé ou placé de façon anormale sur un support de chargement pendant le traitement du substrat peut être réduit de telle sorte que le substrat puisse être chargé à la position droite du support de chargement pendant le traitement réel. Ainsi, un défaut provoqué par la position de chargement d'un substrat peut être réduit et la qualité de traitement de substrat peut être améliorée. 본 발명의 실시예에 따른 기판 처리 시스템은 내부 공간을 가지는 이송 챔버, 기판의 지지 및 이동이 가능하도록 이송 챔버에 설치된 지지부를 구비하는 이송 장치, 이송 챔버 및 이송 장치 중 적어도 하나에 설치된 제 1 검출부를 구비하고, 제 1 검출부에서 획득된 데이터를 이용하여 지지부가 기 설정된 제 1 위치로 이동하였는지 여부를 판단하여, 이송 장치의 동작 상태를 판단하는 제 1 검사 장치를 포함한다. 따라서, 기판 처리 공정 시에 이상이 있는 또는 비정상인 상태로 기판을 안착대 상에 안착시키는 문제를 줄일 수 있고, 이로 인해 실제 공정 시에 안착대의 정위치에 기판을 안착시킬 수 있다. 이에, 기판의 안착 위치에 따른 불량 발생을 줄일 수 있고, 기판 처리 품질을 향상시킬 수 있다.