SYSTEMS, DEVICES, AND METHODS FOR DEDICATED LOW TEMPERATURE DESIGN AND OPERATION

According to one implementation of the present disclosure, a method includes providing one or more tuning parameters of a transistor device at a first temperature of a range of temperatures below a temperature threshold; and adjusting the one or more tuning parameters until one or more second parame...

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Main Authors PRASAD, Divya Madapusi Srinivas, CLINE, Brian Tracy, PIETROMONACO, David Victor
Format Patent
LanguageEnglish
French
Published 19.08.2021
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Summary:According to one implementation of the present disclosure, a method includes providing one or more tuning parameters of a transistor device at a first temperature of a range of temperatures below a temperature threshold; and adjusting the one or more tuning parameters until one or more second parameters of the transistor device corresponds to substantially the same value at the first temperature as a second temperature above the temperature threshold. Selon un mode de réalisation de la présente invention, un procédé comprend la fourniture d'un ou de plusieurs paramètres de réglage d'un dispositif à transistor à une première température d'une plage de températures inférieures à un seuil de température; et l'ajustement du ou des paramètres de réglage jusqu'à ce qu'un ou plusieurs seconds paramètres du dispositif à transistor correspondent sensiblement à la même valeur à la première température qu'à une seconde température supérieure au seuil de température.
Bibliography:Application Number: WO2021GB50275