DOPING SYSTEM, AND METHOD FOR MANUFACTURING ELECTRODE
A doping system that dopes, with an alkali metal, an active material included in an electrode. The doping system comprises a dope tank, a conveying unit, a connection unit, and a drying unit. The dope tank accommodates a counter electrode unit and a solution that contains ions of the alkali metal. T...
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Format | Patent |
Language | English French Japanese |
Published |
12.08.2021
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Summary: | A doping system that dopes, with an alkali metal, an active material included in an electrode. The doping system comprises a dope tank, a conveying unit, a connection unit, and a drying unit. The dope tank accommodates a counter electrode unit and a solution that contains ions of the alkali metal. The conveying unit conveys the electrode along a route that passes inside the dope tank. The connection unit has an electroconductive power supply roller that contacts the electrode, the connection unit electrically connecting the electrode and the counter electrode unit. The drying unit blows a gas onto the electrode that has passed inside the dope tank and is being conveyed to the power supply roller.
L'invention concerne un système de dopage qui dope, avec un métal alcalin, un matériau actif inclus dans une électrode. Le système de dopage comprend un réservoir de dopant, une unité de transfert, une unité de connexion, et une unité de séchage. Le réservoir de dopant loge une unité de contre-électrode et une solution qui contient des ions du métal alcalin. L'unité de transport transporte l'électrode le long d'un trajet qui passe à l'intérieur du réservoir de dopant. L'unité de connexion comprend un rouleau d'alimentation électrique électriquement conducteur qui entre en contact avec l'électrode, l'unité de connexion connectant électriquement l'électrode et l'unité de contre-électrode. L'unité de séchage souffle un gaz sur l'électrode qui est passé à l'intérieur du réservoir de dopant et est transporté vers le rouleau d'alimentation électrique.
ドーピングシステムは、電極に含まれる活物質にアルカリ金属をドープする。ドーピングシステムは、ドープ槽と、搬送ユニットと、接続ユニットと、乾燥ユニットとを備える。ドープ槽は、アルカリ金属のイオンを含む溶液及び対極ユニットを収容する。搬送ユニットは、前記電極を、前記ドープ槽内を通過する経路に沿って搬送する。接続ユニットは、前記電極と接触する導電性の給電ローラを有し、前記電極と前記対極ユニットとを電気的に接続する。乾燥ユニットは、前記ドープ槽内を通過し、前記給電ローラへ搬送されている前記電極にガスを吹きつける。 |
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Bibliography: | Application Number: WO2020JP42756 |