INTEGRATED METROLOGY SYSTEM

• Main Authors: SHVARTSMAN, Igor, SHULMAN, Beni, SHICHTMAN, Alex
• Format: Patent
• Language: English; French
• Published: 30.09.2021
• Subjects: DIAGNOSIS; HUMAN NECESSITIES; HYGIENE; IDENTIFICATION; INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIRCHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES; MEASURING; MEASURING ANGLES; MEASURING AREAS; MEASURING IRREGULARITIES OF SURFACES OR CONTOURS; MEASURING LENGTH, THICKNESS OR SIMILAR LINEARDIMENSIONS; MEDICAL OR VETERINARY SCIENCE; PHYSICS; SURGERY; TESTING

An integrated metrology system for evaluating semiconductor wafers, the metrology system comprises a main body that has a rear side and a front side; the front side defines a front border of the main body; one or more detachable supporting units that are detachably coupled to the main body and support the main body while extending outside the front border; and at least one auxiliary supporting unit that is configured to support the main body at an absence of the one or more detachable supporting units L'invention concerne un système de métrologie intégré pour évaluer des tranches de semiconducteur, le système de métrologie comprenant un corps principal qui comporte un côté arrière et un côté avant; le côté avant définit une bordure avant du corps principal; une ou plusieurs unités de support détachables qui sont couplées de façon détachable au corps principal et supportent le corps principal tout en s'étendant à l'extérieur de la bordure avant; et au moins une unité de support auxiliaire qui est conçue pour supporter le corps principal en l'absence de la ou des unités de support détachables