METHOD AND APPARATUS FOR INSPECTING A SAMPLE BY MEANS OF MULTIPLE CHARGED PARTICLE BEAMLETS

• Main Authors: DEN HOEDT, Sander Vincent, EFFTING, Andries Pieter Johan
• Format: Patent
• Language: English; French
• Published: 15.07.2021
• Subjects: BASIC ELECTRIC ELEMENTS; ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS; ELECTRICITY; INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIRCHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES; MEASURING; PHYSICS; TESTING

The invention relates to a method of inspecting a sample by means of a multi-beam charged particle inspection apparatus, and an apparatus for performing this method. The multi-beam charged particle inspection apparatus is configured to project an array of charged particle beamlets within an exposure area on said sample. Said apparatus comprises a detection system for detecting X-Rays and/or cathodoluminescent light from said exposure area emitted by the sample due to an interaction of the array of charged particle beamlets with the sample. The method comprises the steps of: projecting the array of charged particle beamlets within the exposure area on said sample, and monitoring a combined emission of X-Rays and/or cathodoluminescent light from the interaction of substantially all charged particle beamlets of said array of charged particle beamlets with the sample. L'invention concerne un procédé d'inspection d'un échantillon au moyen d'un appareil d'inspection de particules chargées à faisceaux multiples, et un appareil qui permet la mise en œuvre dudit procédé. L'appareil d'inspection de particules chargées à faisceaux multiples est configuré de sorte à projeter un réseau de sous-faisceaux de particules chargées dans une zone d'exposition sur ledit échantillon. Ledit appareil comprend un système de détection qui permet de détecter des rayons X et/ou une lumière cathodoluminescente provenant de ladite zone d'exposition émise par l'échantillon en raison d'une interaction du réseau de sous-faisceaux de particules chargées avec l'échantillon. Le procédé consiste : à projeter le réseau de sous-faisceaux de particules chargées dans la zone d'exposition sur ledit échantillon, et à surveiller une émission combinée de rayons X et/ou de lumière cathodoluminescente provenant de l'interaction de sensiblement tous les sous-faisceaux de particules chargées dudit réseau de sous-faisceaux de particules chargées avec l'échantillon.