NANOSCALE TOPOGRAPHY SYSTEM FOR USE IN DNA SEQUENCING AND METHOD FOR FABRICATION THEREOF

• Main Authors: JOHNSON, Christopher, BUCCI, Giovanna, GADELRAB, Karim, CRAIG, Nathan P, SHIN, Young Shik, FOMINA, Nadezda
• Format: Patent
• Language: English; French
• Published: 24.06.2021
• Subjects: CHEMICAL OR PHYSICAL LABORATORY APPARATUS FOR GENERAL USE; PERFORMING OPERATIONS; PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL; TRANSPORTING

A method of fabricating a nanoscale topography system for inducing unfolding of a DNA molecule for sequencing includes providing a substrate and creating trench walls on the substrate which define a trench therebetween. The method further includes depositing a layer of a block copolymer (BCP) in the trench and forming cylindrical domains by self-assembly of the BCP between the trench walls, removing a first portion of the cylindrical domains to create a vacant region in the trench, and depositing a subsequent layer of the BCP in the vacant region and forming spherical domains by self-assembly of the BCP between the trench walls adjacent a second portion of the cylindrical domains. The spherical domains form staggered post structures for unfolding the DNA molecule and the cylindrical domains form parallel channel structures for entry of the DNA molecule for sequencing. Un procédé de fabrication d'un système de topographie à l'échelle nanométrique pour induire le dépliage d'une molécule d'ADN pour le séquençage comprend la fourniture d'un substrat et la création de parois de tranchée sur le substrat qui définissent une tranchée entre celles-ci. Le procédé comprend en outre le dépôt d'une couche d'un copolymère séquencé (BCP) dans la tranchée et formant des domaines cylindriques par auto-assemblage du BCP entre les parois de tranchée, l'élimination d'une première partie des domaines cylindriques pour créer une région vacante dans la tranchée, et le dépôt d'une couche ultérieure du BCP dans la région vacante et la formation de domaines sphériques par auto-assemblage du BCP entre les parois de tranchée adjacentes à une seconde partie des domaines cylindriques. Les domaines sphériques forment des structures de montant étagées pour déplier la molécule d'ADN et les domaines cylindriques forment des structures de canal parallèles pour l'entrée de la molécule d'ADN pour le séquençage.