METROLOGY METHOD AND ASSOCIATED METROLOGY AND LITHOGRAPHIC APPARATUSES

• Main Authors: TINNEMANS, Patricius, BRINKHOF, Ralph, MATHIJSSEN, Simon, REHMAN, Samee, KEIJ, Stefan, AARTS, Igor, BHATTACHARYYA, Kaustuve, MEGENS, Henricus, KARSSEMEIJER, Leendert, KOK, Haico
• Format: Patent
• Language: English; French
• Published: 24.06.2021
• Subjects: APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR; CINEMATOGRAPHY; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; PHOTOGRAPHY; PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES,e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTORDEVICES; PHYSICS

Disclosed is a metrology method relating to measurement of a structure on a substrate, said structure being subject to one or more asymmetric deviation. The method comprises obtaining at least one intensity asymmetry value relating to the asymmetric deviation, wherein the at least one intensity asymmetry value comprises a metric related to a difference or imbalance between the respective intensities or amplitudes of at least two diffraction orders of radiation diffracted by said structure; determining at least one phase offset value corresponding to the one or more asymmetric deviation based on said at least one intensity asymmetry value; and determining one or more measurement correction for said one or more asymmetric deviation from the one or more phase offset. L'invention concerne un procédé de métrologie se rapportant à la mesure d'une structure sur un substrat, ladite structure étant soumise à un ou plusieurs écarts asymétriques. Le procédé consiste à obtenir au moins une valeur d'asymétrie d'intensité se rapportant à l'écart asymétrique, la ou les valeurs d'asymétrie d'intensité comprenant une métrique liée à une différence ou à un déséquilibre entre les intensités ou les amplitudes respectives d'au moins deux ordres de diffraction du rayonnement diffracté par ladite structure ; à déterminer au moins une valeur de décalage de phase correspondant à l'écart ou aux écarts asymétriques sur la base de ladite ou desdites valeurs d'asymétrie d'intensité ; et à déterminer une ou plusieurs corrections de mesure pour ledit ou lesdits écarts asymétriques à partir du ou des décalages de phase.