HOT ISOSTATIC PRESSING DEVICE AND ISOSTATIC PRESSING PROCESSING METHOD

Provided are a hot isostatic pressing device and an isostatic pressing processing method that can reduce the load of a compressor for setting the internal pressure of a high-pressure container to a predetermined target pressure. An HIP device (100) comprises a high-pressure container (100S), an insu...

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Main Authors NAKAI, Tomomitsu, WATANABE, Katsumi, SUZUKI, Kazuya
Format Patent
LanguageEnglish
French
Japanese
Published 22.04.2021
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Summary:Provided are a hot isostatic pressing device and an isostatic pressing processing method that can reduce the load of a compressor for setting the internal pressure of a high-pressure container to a predetermined target pressure. An HIP device (100) comprises a high-pressure container (100S), an insulation body (R), a heater (81), a pressure detection unit (85), a temperature detection unit (86), a gas flow generation unit (84), a heater control unit (92), and a gas flow control unit (94). The heater control unit (92) controls the heater (81) to constantly maintain the temperature of a heated region (P) detected by the temperature detection unit (86). When the pressure detected by the pressure detection unit (85) is lower than a preset target pressure range, the gas flow control unit (94) controls the gas flow generation unit (84) to generate a gas flow so that the amount of heat transferred from the heated region (P) via the insulation body (R) to a non-heated region (NP) is increased, thereby increasing the pressure of a body internal space (100T) according to an increase in temperature of the non-heated region (NP). L'invention concerne un dispositif de pression isostatique à chaud et un procédé de traitement par pression isostatique qui peuvent réduire la charge d'un compresseur pour régler la pression interne d'un récipient haute pression à une pression cible prédéterminée. Un dispositif HIP (100) comprend un récipient haute pression (100S), un corps isolant (R), un dispositif de chauffage (81), une unité de détection de pression (85), une unité de détection de température (86), une unité de génération de flux de gaz (84), une unité de commande de chauffage (92), et une unité de commande de flux de gaz (94). L'unité de commande de chauffage (92) commande le dispositif de chauffage (81) pour maintenir constamment la température d'une région chauffée (P) détectée par l'unité de détection de température (86). Lorsque la pression détectée par l'unité de détection de pression (85) est inférieure à une plage de pression cible prédéfinie, l'unité de commande de flux de gaz (94) commande à l'unité de génération de flux de gaz (84) de générer un flux de gaz de sorte que la quantité de chaleur transférée depuis la région chauffée (P) via le corps isolant (R) à une région non chauffée (NP) est augmentée, ce qui permet d'augmenter la pression d'un espace interne de corps (100T) en fonction d'une augmentation de la température de la région non chauffée (NP). 高圧容器内の圧力を所定の目標圧力に設定するための圧縮機の負荷を低減することが可能な熱間等方圧加圧装置および等方圧加圧処理方法を提供する。HIP装置(100)は、高圧容器(100S)と、断熱体(R)と、ヒータ(81)と、圧力検出部(85)と、温度検出部(86)と、ガス流発生部(84)と、ヒータ制御部(92)と、ガス流制御部(94)と、を備える。ヒータ制御部(92)は、温度検出部(86)が検出する加熱領域(P)の温度を一定に維持するようにヒータ(81)を制御する。ガス流制御部(94)は、圧力検出部(85)が検出する圧力が予め設定された目標圧力範囲よりも低い場合に、ガス流発生部(84)を制御してガス流を発生させることによって断熱体(R)を介して加熱領域(P)から非加熱領域(NP)に伝わる熱量を増大させ、非加熱領域(NP)の温度上昇に伴って本体内部空間(100T)の圧力を増大させる。
Bibliography:Application Number: WO2020JP38804