LIQUID ATOMIZATION SYSTEM, MIST-GENERATING SYSTEM, AND LIQUID ATOMIZATION METHOD

• Main Authors: UEDA, Mitsuhiko, SAKAI, Jun, UEMURA, Mariko, KATAYAMA, Hiroyuki
• Format: Patent
• Language: English; French; Japanese
• Published: 01.04.2021
• Subjects: APPLYING LIQUIDS OR OTHER FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL; ATOMISING APPARATUS; NOZZLES; PERFORMING OPERATIONS; SPRAYING APPARATUS; SPRAYING OR ATOMISING IN GENERAL; TRANSPORTING

The present invention generates liquid droplets with nanometer particle sizes more stably. A surface (21) of a substrate (2) has a border (251) of a through hole (25) located, in the propagation direction (D4), between the through hole (25) and the intersection region (33) of an IDT electrode (3), as viewed in the thickness direction. The liquid atomization system (1) atomizes an overspill portion of the liquid by means of surface elastic waves. The overspill portion is the portion that exceeds the border (251) from the through hole (25) and spills over into the surface elastic wave propagation region (23) of the substrate (2). The border (251) has a first end (2511) and a second end (2512). Using a virtual line (VL1), which is orthogonal to the propagation direction (D4) and passes through the first end (2511) and/or the second end (2512), as a reference, when the IDT electrode (3)-side is plus and the side opposite to the IDT electrode (3)-side is minus, the angle of inclination of the border (251) with respect to the virtual line (VL1) is -90 degrees to 45 degrees. La présente invention génère des gouttelettes de liquide dotées de tailles de particules nanométriques, de façon plus stable. Une surface (21) d'un substrat (2) comporte une bordure (251) d'un trou traversant (25) situé, dans la direction de propagation (D4), entre le trou traversant (25) et la région d'intersection (33) d'une électrode IDT (3), telle qu'observée dans le sens de l'épaisseur. Le système d'atomisation de liquide (1) atomise une partie de débordement du liquide au moyen d'ondes élastiques de surface. La partie de débordement est la partie qui dépasse de la bordure (251) du trou traversant (25) et déborde dans la région de propagation d'onde élastiques de surface (23) du substrat (2). La bordure (251) comporte une première extrémité (2511) et une seconde extrémité (2512). À l'aide d'une ligne virtuelle (VL1), qui est orthogonale à la direction de propagation (D4) et passe à travers la première extrémité (2511) et/ou la seconde extrémité (2512), en tant que référence, lorsque le côté de l'électrode IDT (3) est positif et que le côté opposé au côté de l'électrode IDT (3) est négatif, l'angle d'inclinaison de la bordure (251) par rapport à la ligne virtuelle (VL1) est de -90 degrés à 45 degrés. ナノメートルサイズの粒径を有する液滴粒子を、より安定して発生させる。基板（２）は、厚さ方向から見て、伝搬方向（Ｄ４）において貫通孔（２５）とＩＤＴ電極（３）の交差領域（３３）との間に位置する、表面（２１）における貫通孔（２５）の周縁（２５１）を有する。液体霧化システム（１）は、液体のうちはみ出し部を表面弾性波によって霧化する。はみ出し部は、貫通孔（２５）から周縁（２５１）を越えて基板（２）における表面弾性波の伝搬領域（２３）上にはみ出した部分である。周縁（２５１）は、第１端（２５１１）及び第２端（２５１２）を有する。伝搬方向（Ｄ４）に直交し第１端（２５１１）と第２端（２５１２）との少なくとも一方を通る仮想直線（ＶＬ１）に対する周縁（２５１）の傾斜角が、仮想直線（ＶＬ１）を基準としてＩＤＴ電極（３）側をプラス、ＩＤＴ電極（３）側とは反対側をマイナスとしたときに、－９０度以上４５度以下である。