CONCENTRATION MONITORING SYSTEM, CONCENTRATION MANAGEMENT SYSTEM, AND CONCENTRATION MONITORING METHOD

• Main Authors: OKUZAKI Yuichi, CHIYOMARU Masaru, MIKAWA Hiroaki
• Format: Patent
• Language: English; French; Japanese
• Published: 01.04.2021
• Subjects: APPARATUS THEREFOR; CHEMISTRY; ELECTROFORMING; ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIRCHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES; MEASURING; METALLURGY; PHYSICS; PROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTIONOF COATINGS; TESTING

Provided is a concentration monitoring system which allows continuous concentration monitoring of a processing tank. The concentration monitoring system is provided with a first cycle in which a sample of a processing liquid to which a chemical has been added is taken from a processing tank in which the processing liquid is stored and supplied to a concentration meter which measures the concentration of the chemical, a second cycle in which a chemical solution having a known concentration of the chemical is supplied to the concentration meter, and a control device which controls the first cycle to evaluate the concentration of the chemical in the processing tank on the basis of the concentration of the sample measured by the concentration meter and controls the second cycle to evaluate the precision of the concentration meter on the basis of the concentration of the chemical solution measured by the concentration meter. L'invention concerne un système de surveillance de concentration qui permet la surveillance continue de la concentration d'un réservoir de traitement. Le système de surveillance de concentration comprend un premier cycle au cours duquel un échantillon d'un liquide de traitement auquel un produit chimique a été ajouté est prélevé d'un réservoir de traitement dans lequel le liquide de traitement est stocké et fourni à un dispositif de mesure de concentration qui mesure la concentration du produit chimique, un second cycle au cours duquel une solution chimique ayant une concentration connue du produit chimique est fournie au dispositif de mesure de concentration, et un dispositif de commande qui commande le premier cycle pour évaluer la concentration du produit chimique dans le réservoir de traitement sur la base de la concentration de l'échantillon mesurée par le dispositif de mesure de concentration et commande le second cycle pour évaluer la précision du dispositif de mesure de concentration sur la base de la concentration de la solution chimique mesurée par le dispositif de mesure de concentration. 継続的な処理槽の濃度監視を可能とする濃度監視システムを提供する。 濃度監視システムは、薬品が添加された処理液を貯留する処理槽から前記処理液のサンプルを採取して前記薬品の濃度を計測する濃度計へ供給する第１サイクルと、前記薬品の濃度が既知の薬液を前記濃度計へ供給する第２サイクルと、前記第１サイクルを制御して前記濃度計が計測した前記サンプルの濃度に基づいて前記処理槽の前記薬品の濃度を評価し、前記第２サイクルを制御して前記濃度計が計測した前記薬液の濃度に基づいて前記濃度計の精度を評価する制御装置と、を備える。