CHLORINE INJECTION CONCENTRATION MANAGEMENT DEVICE, CHLORINE INJECTION CONCENTRATION MANAGEMENT METHOD, AND CHLORINE INJECTION CONCENTRATION MANAGEMENT PROGRAM

Provided is a chlorine injection concentration management device which makes it possible to align a residual chlorine concentration at a condenser intake port to a target value without necessitating a complicated procedure, as compared to the prior art. A chlorine injection concentration management...

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Main Authors SHOJI Kazunori, KATSUYAMA Ichiro, SUZUKI Yuya, KAWATA Morihiro, FUJIWARA Atsushi, YANAGAWA Toshiharu, SADAMICHI Yucho
Format Patent
LanguageEnglish
French
Japanese
Published 25.03.2021
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Summary:Provided is a chlorine injection concentration management device which makes it possible to align a residual chlorine concentration at a condenser intake port to a target value without necessitating a complicated procedure, as compared to the prior art. A chlorine injection concentration management device 1 for a seawater utilization plant, the device comprising: a data acquisition unit 111 that acquires data of a set including an injection rate of chlorine being injected in from a chlorine injection port in the seawater utilization plant, and the residual chlorine concentration after a predetermined length of time following injection, the residual chlorine concentration being at an inlet port of a condenser that is installed in the seawater utilization plant; a relationship computation unit 112 that takes an exponential approximation of the relationship between the injection rate and the residual chlorine concentration on the basis of data for at least two sets of the injection rate and the residual chlorine concentration; a target concentration acquisition unit 113 that acquires a target value for the residual chlorine concentration; and an optimum chlorine injection rate calculation unit 114 that calculates an optimum value for the injection rate on the basis of the target value for the residual chlorine concentration and the relationship for which the exponential approximation was taken. L'invention concerne un dispositif de gestion de concentration d'injection de chlore qui permet de régler une concentration de chlore résiduel à un orifice d'admission de condenseur à une valeur cible sans nécessiter une procédure compliquée, par comparaison avec l'état de la technique. L'invention concerne un dispositif de gestion de concentration d'injection de chlore 1 pour une installation utilisant de l'eau de mer, le dispositif comprenant : une unité d'acquisition de données 111 qui acquiert des données d'un ensemble incluant un taux d'injection de chlore qui est injecté à partir d'un orifice d'injection de chlore dans l'installation utilisant de l'eau de mer, et la concentration de chlore résiduel après une durée prédéterminée suivant l'injection, la concentration de chlore résiduel étant située à un orifice d'entrée d'un condenseur se trouvant dans l'installation utilisant de l'eau de mer; une unité de calcul de relation 112 qui prend une approximation exponentielle de la relation entre le taux d'injection et la concentration de chlore résiduel sur la base de données relatives à au moins deux ensembles de taux d'injection et de concentration de chlore résiduel; une unité d'acquisition de concentration cible 113 qui acquiert une valeur cible pour la concentration de chlore résiduel; et une unité de calcul de taux d'injection de chlore optimal 114 qui calcule une valeur optimale pour le taux d'injection sur la base de la valeur cible de la concentration de chlore résiduel et de la relation pour laquelle l'approximation exponentielle a été prise. 従来技術に比較して、煩雑な手続を必要とせずに、復水器入口での残留塩素濃度を目標値に合わせることが可能な、塩素注入濃度管理装置を提供する。海水利用プラントのための塩素注入濃度管理装置1であって、海水利用プラントにおける塩素注入口から注入する塩素の注入率と、注入から所定時間後の、海水利用プラントに設置される復水器の入口における残留塩素濃度との組のデータを取得するデータ取得部111と、少なくとも二組の注入率と残留塩素濃度とのデータに基づいて、注入率と残留塩素濃度との関係を指数近似する関係演算部112と、残留塩素濃度の目標値を取得する目標濃度取得部113と、残留塩素濃度の目標値と、指数近似された前記関係とに基づいて、注入率の最適値を算出する最適塩素注入率算出部114と、を備える。
Bibliography:Application Number: WO2019JP36573