PARTICLE BEAM IRRADIATION SYSTEM AND PARTICLE BEAM IRRADIATION FACILITY

The purpose of the present invention is to reduce the installation area of a particle beam treatment system. A particle beam irradiation system according to one embodiment of the present invention comprises an accelerator which is installed on a floor and which accelerates a charged particle beam, a...

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Main Authors NISHIUCHI, Hideaki, TAKIZAWA, Kenichi, KATAYOSE, Tadashi
Format Patent
LanguageEnglish
French
Japanese
Published 18.03.2021
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Summary:The purpose of the present invention is to reduce the installation area of a particle beam treatment system. A particle beam irradiation system according to one embodiment of the present invention comprises an accelerator which is installed on a floor and which accelerates a charged particle beam, a transport device which transports the charged particle beam emitted from the accelerator, an irradiation device which irradiates a subject to be irradiated with the charged particle beam transported by the transport device, and a gantry which is installed on the floor and has the irradiation device attached thereto. The gantry also includes a rotator which rotates the irradiation device around the subject to be irradiated, and a support device which supports the rotator from the floor at a position in which the projection plane of the rotator on the floor and the projection plane of the accelerator or the transport device on the floor overlap at least partially. L'objet de la présente invention est de réduire la zone d'installation d'un système de traitement par faisceau de particules. Un système d'irradiation par faisceau de particules selon un mode de réalisation de la présente invention comprend un accélérateur qui est installé sur un plancher et qui accélère un faisceau de particules chargées, un dispositif de transport qui transporte le faisceau de particules chargées émis par l'accélérateur, un dispositif d'irradiation qui irradie un sujet à irradier avec le faisceau de particules chargées transporté par le dispositif de transport et un portique qui est installé sur le plancher et qui a le dispositif d'irradiation fixé à celui-ci. Le portique comprend également un rotateur qui fait tourner le dispositif d'irradiation autour du sujet à irradier, et un dispositif support qui supporte le rotateur à partir du plancher dans une position dans laquelle le plan de projection du rotateur sur le plancher et le plan de projection de l'accélérateur ou du dispositif de transport sur le plancher se chevauchent au moins partiellement. 粒子線治療システムの設置面積を低減する。本開示のひとつの態様による粒子線照射システムは、粒子線照射システムは、床面に設置され、荷電粒子ビームを加速する加速器と、加速器から出射された荷電粒子ビームを輸送する輸送装置と、輸送装置により輸送された荷電粒子ビームを照射対象に照射する照射装置と、床面に設置され、照射装置が取付けられたガントリと、を備える。また、ガントリは、照射装置を照射対象の周りで回転させる回転体と、回転体の床面への投影面と加速器または輸送装置の床面への投影面とが少なくとも一部で重なる位置に回転体を床面から支持する支持装置と、を有する。
Bibliography:Application Number: WO2020JP25029