FLUID HANDLING SYSTEM AND LITHOGRAPHIC APPARATUS

• Main Authors: POLET, Theodorus, FAHRNI, Francis, VAN DER HAM, Ronald, PIETERSE, Gerben, EUMMELEN, Erik, STEFFENS, Koen
• Format: Patent
• Language: English; French
• Published: 18.03.2021
• Subjects: APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR; CINEMATOGRAPHY; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; PHOTOGRAPHY; PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES,e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTORDEVICES; PHYSICS

A fluid handling system for wetting a region of a surface of a substrate irradiated by a radiation beam. The fluid handling system comprises a first device (112) configured to confine a first liquid to a first space (111) between at least a part of the first device and the surface of the substrate. The first device comprising an aperture (10) formed therein for the passage therethrough of the radiation beam (B) to irradiate the region by passing through the first liquid. The first device comprising at least one first liquid supply member (20, 23, 34) configured to provide the first liquid to the first space and at least one extraction member (32) configured to remove liquid from the first space. The fluid handling system further comprises a second device (200) comprising at least one second liquid supply member (201) configured to provide a second liquid to a second space (211) between at least a part of the second device and the surface of the substrate, wherein there is a gap (g) on the surface of the substrate between the second liquid and the first liquid. The fluid handling system is configured to provide the second liquid to the second space without removing any liquid from the second space to form a liquid layer over at least the region, and is configured to provide the first liquid and the second liquid on the surface of the substrate simultaneously. L'invention concerne un système de manipulation de fluide servant à humidifier une région d'une surface d'un substrat irradié par un faisceau de rayonnement. Le système de manipulation de fluide comprend un premier dispositif (112) conçu pour confiner un premier liquide dans un premier espace (111) entre au moins une partie du premier dispositif et la surface du substrat. Le premier dispositif comprend une ouverture (10) formée à l'intérieur de celui-ci pour que le faisceau de rayonnement (B) puisse passer à travers lui pour irradier la région en passant à travers le premier liquide. Le premier dispositif comprend au moins un premier élément d'alimentation en liquide (20, 23, 34) conçu pour fournir le premier liquide au premier espace et au moins un élément d'extraction (32) conçu pour retirer le liquide du premier espace. Le système de manipulation de fluide comprend en outre un second dispositif (200) comprenant au moins un second élément d'alimentation en liquide (201) conçu pour fournir un second liquide à un second espace (211) entre au moins une partie du second dispositif et la surface du substrat, un espace (g) étant formé sur la surface du substrat entre le second liquide et le premier liquide. Le système de manipulation de fluide est conçu pour fournir le second liquide au second espace sans retirer aucun liquide du second espace pour former une couche de liquide au moins sur la région, et il est conçu pour fournir simultanément le premier liquide et le second liquide sur la surface du substrat.