CHEMICALLY AMPLIFIED POSITIVE PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION, PHOTOSENSITIVE DRY FILM, PRODUCTION METHOD FOR PHOTOSENSITIVE DRY FILM, PRODUCTION METHOD FOR PATTERNED RESIST FILM, AND PRODUCTION METHOD FOR COMPOUND, PHOTO-ACID GENERATOR, AND N-ORGANOSULFONYLOXY COMPOUND

• Main Author: KAWAUE Akiya
• Format: Patent
• Language: English; French; Japanese
• Published: 11.02.2021
• Subjects: ADHESIVES; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR; CHEMISTRY; CINEMATOGRAPHY; DYES; ELECTROGRAPHY; HETEROCYCLIC COMPOUNDS; HOLOGRAPHY; MATERIALS FOR MISCELLANEOUS APPLICATIONS, NOT PROVIDED FORELSEWHERE; MATERIALS THEREFOR; METALLURGY; MISCELLANEOUS APPLICATIONS OF MATERIALS; MISCELLANEOUS COMPOSITIONS; NATURAL RESINS; ORGANIC CHEMISTRY; ORIGINALS THEREFOR; PAINTS; PHOTOGRAPHY; PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES,e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTORDEVICES; PHYSICS; POLISHES

The present invention aims to provide: a chemically amplified positive photosensitive resin composition that contains an acid generator having excellent solvent solubility and can readily form a resist pattern having excellent mask linearity; a photosensitive dry film comprising a photosensitive layer comprising the chemically amplified positive photosensitive resin composition; a production method for the photosensitive dry film; a production method for a patterned resist film using the chemically amplified positive photosensitive resin composition; and a compound and photo-acid generator that can be ideally blended in the chemically amplified positive photosensitive resin composition.　The chemically amplified positive photosensitive resin composition includes: an acid generator (A) that generates acid using irradiation of active light rays or radiation; and a resin (B) that has a solubility in alkali that increases as a result of the action of the acid. The acid generator (A) includes a compound indicated by formula (A1). L'objet de la présente invention est de fournir : une composition de résine photosensible positive chimiquement amplifiée qui contient un générateur d'acide ayant une excellente solubilité dans un solvant et qui peut facilement former un motif de réserve ayant une excellente linéarité de masque ; un film sec photosensible comprenant une couche photosensible comprenant la composition de résine photosensible positive chimiquement amplifiée ; un procédé de production de film sec photosensible ; un procédé de production d'un film de réserve à motifs à l'aide de la composition de résine photosensible positive chimiquement amplifiée ; un composé et un générateur de photo-acide qui peuvent être idéalement mélangés dans la composition de résine photosensible positive chimiquement amplifiée.　La composition de résine photosensible positive chimiquement amplifiée comprend : un générateur d'acide (A) qui génère de l'acide par irradiation de rayons ou d'un rayonnement de lumière active ; et une résine (B) qui a une solubilité dans un alcali qui augmente suite à l'action de l'acide. Le générateur d'acide (A) comprend un composé représenté par la formule (A1). 含有される酸発生剤が溶剤溶解性に優れ且つマスクリニアリティに優れたレジストパターンが形成しやすい化学増幅型ポジ型感光性樹脂組成物と、当該化学増幅型ポジ型感光性樹脂組成物からなる感光性層を備える感光性ドライフィルム、当該感光性ドライフィルムの製造方法と、前述の化学増幅型ポジ型感光性樹脂組成物を用いるパターン化されたレジスト膜の製造方法と、前述の化学増幅型ポジ型感光性樹脂組成物に好ましく配合しうる化合物及び光酸発生剤を提供すること。　活性光線又は放射線の照射により酸を発生する酸発生剤（Ａ）と、酸の作用によりアルカリに対する溶解性が増大する樹脂（Ｂ）と、を含む化学増幅型ポジ型感光性樹脂組成物であって、酸発生剤（Ａ）が式（Ａ１）で表される化合物を含む。