FISSILE TARGET MATERIALS AND METHODS FOR PROCESSING FISSILE TARGET MATERIALS

Methods can include preparing a target substrate that includes a fissile atom, and layering at least one surface of the substrate with a capturing layer. Fissile target materials are provided. The fissile target materials can include a target substrate and a capturing layer operably interfacing with...

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Main Authors HUBBARD, Lance, UHNAK, Nicolas, MCNAMARA, Bruce, HALL, Gabriel, MORRISON, Samuel
Format Patent
LanguageEnglish
French
Published 18.03.2021
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Summary:Methods can include preparing a target substrate that includes a fissile atom, and layering at least one surface of the substrate with a capturing layer. Fissile target materials are provided. The fissile target materials can include a target substrate and a capturing layer operably interfacing with at least one surface of the target substrate. The methods can include irradiating fissile target material to capture fission products of the irradiated fissile target material in a capturing layer of the target material. Fission fissile target materials are also provided that can include a target substrate comprising at least one fissile atom and a capturing layer operably interfacing with at least one surface of the target substrate. Methods for separating fissioned product from fission fissile target materials are also provided. The methods can include separating at least a portion of the captured layer of the fissioned fissile target material. Les procédés peuvent comprendre la préparation d'un substrat cible qui comprend un atome fissile, et la stratification d'au moins une surface du substrat avec une couche de capture. L'invention concerne également des matières cibles fissiles. Les matières cibles fissiles peuvent comprendre un substrat cible et une couche de capture en interface fonctionnelle avec au moins une surface du substrat cible. Les procédés peuvent consister à irradier une matière cible fissile pour capturer des produits de fission de la matière cible fissile irradiée dans une couche de capture de la matière cible. L'invention concerne également des matières cibles fissiles de fission qui peuvent comprendre un substrat cible comprenant au moins un atome fissile et une couche de capture en interface fonctionnelle avec au moins une surface du substrat cible. L'invention concerne également des procédés de séparation d'un produit fissionné vis-à-vis de matières cibles fissiles de fission. Les procédés peuvent consister à séparer au moins une partie de la couche capturée de la matière cible fissile fissionnée vis-à-vis de la matière cible fissile.
Bibliography:Application Number: WO2020US44543