APPARATUS AND METHOD FOR MEASURING SUBSTRATE HEIGHT

• Main Authors: PONGERS, Willem, DE NIVELLE, Martin, ROGACHEVSKIY, Andrey, GIJSBERTSEN, Arjan, TROGRLIC, Viktor
• Format: Patent
• Language: English; French
• Published: 14.01.2021
• Subjects: APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR; CINEMATOGRAPHY; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; PHOTOGRAPHY; PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES,e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTORDEVICES; PHYSICS

An apparatus for measuring a height of a substrate for processing in a lithographic apparatus is disclosed. The apparatus comprises a first sensor for sensing a height of the substrate over a first area. The apparatus also comprises a second sensor for sensing a height of the substrate over a second area. The apparatus further comprises a processor adapted to normalize first data corresponding to a signal from the first sensor with a second sensor footprint to produce a first normalized height data, and to normalize second data corresponding to a signal from the second sensor with a first sensor footprint to produce a second normalized height data. The processor is adapted to determine a correction to a measured height of the substrate based on a difference between the first and second normalized height data. L'invention concerne un appareil de mesure de la hauteur d'un substrat pour un traitement dans un appareil lithographique. L'appareil comprend un premier capteur de détection d'une hauteur du substrat sur une première zone. L'appareil comprend également un second capteur de détection d'une hauteur du substrat sur une seconde zone. L'appareil comprend en outre un processeur adapté pour normaliser des premières données correspondant à un signal provenant du premier capteur avec une seconde empreinte de capteur, pour produire une première donnée normalisée de hauteur et pour normaliser des secondes données correspondant à un signal provenant du second capteur avec une première empreinte de capteur, pour produire une seconde donnée normalisée de hauteur. Le processeur est adapté pour déterminer une correction à une hauteur mesurée du substrat, en fonction d'une différence entre les première et seconde données normalisées de hauteur.