APPARATUSES AND METHODS FOR PLASMA PROCESSING

• Main Authors: CARRUTH, Megan, BLAKENEY, Joel, VENTZEK, Peter, RANJAN, Alok, NAGASEKI, Kazuya, CHEN, Zhiying
• Format: Patent
• Language: English; French
• Published: 19.11.2020
• Subjects: BASIC ELECTRIC ELEMENTS; ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS; ELECTRICITY

A method of plasma processing comprises generating electrons in a source chamber, generating an electric potential gradient between the source chamber and a processing chamber by applying a first negative direct current (DC) voltage to the source chamber and a ground voltage to the processing chamber, accelerating the electrons from the source chamber through a dielectric injector and into the processing chamber using the electric potential gradient, and generating an electron-beam sustained plasma (ESP) in the processing chamber using the electrons from the source chamber. Procédé de traitement par plasma comprenant les étapes consistant à : générer des électrons dans une chambre source ; générer un gradient de potentiel électrique entre la chambre source et une chambre de traitement, en appliquant une première tension en courant continu (CC) négative à la chambre source et une tension de masse à la chambre de traitement ; accélérer les électrons provenant de la chambre source, à travers un injecteur diélectrique et dans la chambre de traitement, à l'aide du gradient de potentiel électrique, et générer un plasma entretenu par le faisceau d'électrons (ESP), dans la chambre de traitement, à l'aide des électrons provenant de la chambre source.