CLOSED-LOOP MULTIPLE-OUTPUT RADIO FREQUENCY (RF) MATCHING
An apparatus and method for performing closed-loop multiple-output control of radio frequency (RF) matching for a semiconductor wafer fabrication process is provided. An apparatus for providing signals to a station of a process chamber performs semiconductor fabrication processes. A plurality of sig...
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Format | Patent |
Language | English French |
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12.11.2020
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Summary: | An apparatus and method for performing closed-loop multiple-output control of radio frequency (RF) matching for a semiconductor wafer fabrication process is provided. An apparatus for providing signals to a station of a process chamber performs semiconductor fabrication processes. A plurality of signal generators generates signals having first and second frequencies. A measurement circuit measures a voltage standing wave ratio (VSWR). A match reflection optimizer has a reactive component configured to be adjusted responsive to an output signal from the measurement circuit.
L'invention concerne un appareil et un procédé pour effectuer une commande à sorties multiples en boucle fermée d'une mise en correspondance de radiofréquence (RF) pour un processus de fabrication de tranche de semi-conducteur. Un appareil pour fournir des signaux à une station d'une chambre de traitement effectue des processus de fabrication de semi-conducteurs. Une pluralité de générateurs de signaux génère des signaux ayant des première et seconde fréquences. Un circuit de mesure mesure un rapport d'ondes stationnaires (ROS). Un optimiseur de réflexion de correspondance comprend un composant réactif configuré pour être ajusté en réponse à un signal de sortie provenant du circuit de mesure. |
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Bibliography: | Application Number: WO2020US30835 |