OPTICAL ELEMENT AND METHOD FOR PRODUCING SAME

• Main Authors: UCHIYAMA, Hirokazu, HASHIMOTO, Masaki, ITAZU, Nobuo
• Format: Patent
• Language: English; French; Japanese
• Published: 17.09.2020
• Subjects: CHEMICAL SURFACE TREATMENT; CHEMISTRY; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATIONOR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY IONIMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; COATING METALLIC MATERIAL; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION INGENERAL; LAYERED PRODUCTS; LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT ORNON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM; METALLURGY; OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS, OR APPARATUS; OPTICS; PERFORMING OPERATIONS; PHYSICS; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THESURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; TRANSPORTING

The present invention provides a method for producing an optical element which comprises a base material and a multilayer covering film that is formed on the base material. A production method according to the present disclosure comprises a multilayer formation step for forming an optical multilayer part of the multilayer covering film and an outermost surface formation step for forming the outermost surface part of the multilayer covering film; and the pressure conditions for forming the multilayer covering film are not continuous between the multilayer formation step and the outermost surface formation step. In addition, a layer containing silicon oxide is formed before the formation of a layer containing a fluorine compound in the outermost surface formation step. La présente invention concerne un procédé de production d'un élément optique qui comprend un matériau de base métallique et un film de revêtement multicouche qui est formé sur le matériau de base. Un procédé de production selon la présente invention comprend une étape de formation multicouche pour former une partie multicouche optique du film de revêtement multicouche et une étape de formation de surface externe pour former la partie de surface externe du film de revêtement multicouche ; et les conditions de pression pour former le film de revêtement multicouche ne sont pas continues entre l'étape de formation multicouche et l'étape de formation de surface externe. De plus, une couche contenant de l'oxyde de silicium est formée avant la formation d'une couche contenant un composé fluoré dans l'étape de formation de surface externe. 基材とその上に形成された積層被膜とを有して成る光学素子の製造方法が提供される。本開示の製造方法では、積層被膜の光学多層部を形成する多層形成工程と、積層被膜の最表面部を形成する最表面形成工程とを含んで成り、多層形成工程と前記最表面形成工程との間では、前記積層被膜を形成するための圧力条件を不連続にしている。また、最表面形成工程では、フッ素化合物含有層の形成に先立って酸化ケイ素含有層を形成する。