A PATTERNING DEVICE AND METHOD OF USE THEREOF

• Main Authors: FINDERS, Jozef, TIMMERMANS, Frank, MC NAMARA, John, VAN LARE, Marie-Claire, WITTEBROOD, Friso
• Format: Patent
• Language: English; French
• Published: 13.08.2020
• Subjects: APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR; CINEMATOGRAPHY; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; PHOTOGRAPHY; PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES,e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTORDEVICES; PHYSICS

An attenuated phase shift patterning device comprising a first component for reflecting radiation, and a second component for reflecting radiation with a different phase with respect to the radiation reflected from the first component, the second component covering at least a portion of the surface of the first component such that a pattern comprising at least one uncovered portion of the first component is formed for generating a patterned radiation beam in a lithographic apparatus in use, wherein the second component comprises a material having a refractive index with a real part (n) being less than 0.95 and an imaginary part (k) being less than 0.04. Un dispositif de formation de motifs à décalage de phase atténué comprend un premier composant pour réfléchir un rayonnement, et un second composant pour réfléchir un rayonnement avec une phase différente par rapport au rayonnement réfléchi par le premier composant, le second composant recouvrant au moins une partie de la surface du premier composant de sorte qu'un motif comprenant au moins une partie non couverte du premier composant est formé pour générer un faisceau de rayonnement à motif dans un appareil lithographique en utilisation, le second composant comprenant un matériau ayant un indice de réfraction avec une partie réelle (n) inférieure à 0,95 et une partie imaginaire (k) inférieure à 0,04.