MASKING OF CRYSTALLINE SILICON DIOXIDE
Verfahren zur Behandlung von kristallinem Siliciumdioxid, umfassend den Schritt des Vermahlens eines kristallinen Siliciumdioxids mit 0,05 -1,00 Gew.- % einer Substanz ausgewählt aus der Gruppe bestehend aus mehrwertigen Alkoholen, Aluminiumalkoholat, Kaolin und Mischungen davon. A process for treat...
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Format | Patent |
Language | English French German |
Published |
06.08.2020
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Summary: | Verfahren zur Behandlung von kristallinem Siliciumdioxid, umfassend den Schritt des Vermahlens eines kristallinen Siliciumdioxids mit 0,05 -1,00 Gew.- % einer Substanz ausgewählt aus der Gruppe bestehend aus mehrwertigen Alkoholen, Aluminiumalkoholat, Kaolin und Mischungen davon.
A process for treating crystalline silicon dioxide, comprising the step: milling a crystalline silicon dioxide having 0.05 - 1.00 wt.- % of a substance selected from the group consisting of polyvalent alcohols, aluminium alcoholates, kaolin, and mixtures thereof.
Procédé pour le traitement de dioxyde de silicium cristallin, comprenant l'étape du broyage d'un dioxyde de silicium cristallin avec 0,05 à 1,00% en poids d'une substance choisie dans le groupe composé d'alcools polyvalents, d'alcoolate d'aluminium, de kaolin et de mélanges de ceux-ci. |
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Bibliography: | Application Number: WO2020EP52286 |