VAPOR DEPOSITION MATERIAL, METHOD FOR PRODUCING SUBSTRATE WITH BASE LAYER, AND METHOD FOR PRODUCING SUBSTRATE WITH WATER AND OIL-REPELLENT LAYER
Provided is a vapor deposition material from which a base layer can be formed which is capable of uniformly forming a water and oil-repellent layer comprising a condensate of a fluorine-containing compound having a reactive silyl group. This vapor deposition material contains an oxide including: sil...
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Format | Patent |
Language | English French Japanese |
Published |
02.07.2020
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Summary: | Provided is a vapor deposition material from which a base layer can be formed which is capable of uniformly forming a water and oil-repellent layer comprising a condensate of a fluorine-containing compound having a reactive silyl group. This vapor deposition material contains an oxide including: silicon; and at least one element I selected from the group consisting of a Group 1 element, a Group 2 element, a Group 13 element, a Group 15 element, and a transition metal element of the periodic table, and has a water content ratio of less than 2.0 mass%.
L'invention fournit un matériau de dépôt en phase vapeur qui permet de former une sous-couche permettant à son tour de former de manière uniforme une couche hydrofuge et oléofuge constituée d'un produit de condensation d'un composé fluoré possédant un groupe silyle réactif. Ce matériau de dépôt en phase vapeur contient un oxyde qui contient à son tour un silicium, et au moins une sorte d'élément chimique (I) choisie dans un groupe constitué d'un élément du groupe 1, d'un élément du groupe 2, d'un élément du groupe 13, d'un élément du groupe 15 et d'un élément métal de transition, et présente une teneur en eau inférieure à 2,0% en masse.
反応性シリル基を有する含フッ素化合物の縮合物からなる撥水撥油層を均一に形成することができる下地層を形成できる蒸着材料を提供する。 ケイ素と、周期表の第1族元素、第2族元素、第13族元素、第15族元素、および、遷移金属元素からなる群から選ばれる少なくとも1種の元素Iと、を含む酸化物を含み、含水率が2.0質量%未満である、蒸着材料。 |
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Bibliography: | Application Number: WO2019JP50406 |