ACTIVE WET SCRUBBING FILTRATION SYSTEM
An active wet scrubbing filtration system for decontamination of a gas stream comprises components including one or more of: a) a vortexing apparatus which induces a contaminant-bearing gas into a helical flow; b) an initial scrubbing fluid spray section configured so as to project a spray of scrubb...
Saved in:
Main Authors | , , , |
---|---|
Format | Patent |
Language | English French |
Published |
25.06.2020
|
Subjects | |
Online Access | Get full text |
Cover
Loading…
Summary: | An active wet scrubbing filtration system for decontamination of a gas stream comprises components including one or more of: a) a vortexing apparatus which induces a contaminant-bearing gas into a helical flow; b) an initial scrubbing fluid spray section configured so as to project a spray of scrubbing fluid into the contaminant-bearing gas stream; c) an absorption structure; d) a condenser; and e) first and second scrubbing fluid decontamination systems that may be engaged or disengaged independently of each other. In some embodiments, the worksite comprises a clean room or one or more semiconductor processing tools, which may include photolithography tools or photolithography tool clusters. In some embodiments, the active wet scrubbing filtration system may be useful in cleaning and recycling air or other process gasses for use in clean rooms or semiconductor processing tools.
L'invention concerne un système actif de filtration par épuration par voie humide pour la décontamination d'un flux de gaz comprend des composants comprenant un ou plusieurs des éléments suivants : a) un appareil de tourbillonnement qui induit un gaz porteur de contaminants dans un flux hélicoïdal ; b) une section de pulvérisation de fluide d'épuration initiale configurée de façon à projeter une pulvérisation de fluide d'épuration dans le flux de gaz porteur de contaminant ; c) une structure d'absorption ; d) un condenseur ; et e) des premier et second systèmes de décontamination de fluide d'épuration qui peuvent être mis en prise ou libérés indépendamment l'un de l'autre. Dans certains modes de réalisation, le chantier comprend une salle blanche ou un ou plusieurs outils de traitement de semi-conducteurs, qui peuvent comprendre des outils de photolithographie ou des groupes d'outils de photolithographie. Dans certains modes de réalisation, le système actif de filtration par épuration par voie humide peut être utile dans le nettoyage et le recyclage de l'air ou d'autres gaz de traitement destinés à être utilisés dans des salles blanches ou des outils de traitement de semi-conducteurs. |
---|---|
Bibliography: | Application Number: WO2019US62981 |