METHODS AND APPARATUS FOR METROLOGY

• Main Authors: SMORENBURG, Petrus, MOSSAVAT, Seyed Iman, COENEN, Teis
• Format: Patent
• Language: English; French
• Published: 25.06.2020
• Subjects: APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR; CINEMATOGRAPHY; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY; INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIRCHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES; MATERIALS THEREFOR; MEASURING; ORIGINALS THEREFOR; PHOTOGRAPHY; PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES,e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTORDEVICES; PHYSICS; TESTING

Methods and apparatus for directing onto a substrate a radiation beam emitted as a result of high harmonic generation (HHG). A drive radiation source provides drive radiation to an interaction region which contains a medium for HHG generation. The radiation generated by HHG may comprise a plurality of soft X-ray (SXR) wavelengths. Different HHG generated wavelengths have a different divergence angles. The apparatus further comprises an optical system which focusses the different HHG wavelengths to different focal planes, because of the different divergence angles. The apparatus further comprises a substrate support for holding the substrate. One or more of the drive radiation source, interaction region, optical system and substrate support can control the position of the substrate relative to the plurality of focal planes of the HHG radiation. L'invention concerne des procédés et un appareil servant à diriger sur un substrat un faisceau de rayonnement émis suite à une génération d'harmoniques élevées (HHG). Une source de rayonnement d'entraînement fournit un rayonnement d'entraînement à une région d'interaction qui contient un support pour la génération de HHG. Le rayonnement généré par HHG peut comprendre une pluralité de longueurs d'onde de rayons X mous (SXR). Différentes longueurs d'onde générées par HHG ont des angles de divergence différents. L'appareil comprend en outre un système optique qui focalise les différentes longueurs d'onde HHG sur différents plans focaux, en raison des différents angles de divergence. L'appareil comprend en outre un support de substrat à des fins de retenue du substrat. Un ou plusieurs parmi la source de rayonnement d'entraînement, la région d'interaction, le système optique et le support de substrat peuvent commander la position du substrat par rapport à la pluralité de plans focaux du rayonnement HHG.