SUBSTRATE PROCESSING APPARATUS, SUBSTRATE PROCESSING METHOD, AND COMPUTER-READABLE RECORDING MEDIUM

• Main Authors: SUNAKA Ikuo, KAGAWA Koji, AMAI Masaru, TANAKA Shinobu
• Format: Patent
• Language: English; French; Japanese
• Published: 22.05.2020
• Subjects: BASIC ELECTRIC ELEMENTS; ELECTRIC SOLID STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; ELECTRICITY; SEMICONDUCTOR DEVICES

The present disclosure describes a substrate processing apparatus that can supply ozone water having a stable ozone concentration to a substrate; a substrate processing method; and a computer-readable recording medium.　The substrate processing apparatus comprises: an ozone gas supply unit configured to supply ozone gas; an adjustment liquid supply unit configured to supply an adjustment liquid having a proscribed hydrogen ion concentration; a dissolution unit configured to dissolve the ozone gas in the adjustment liquid, thereby generating ozone water; at least one processing chamber configured to clean a substrate with the ozone water; and a liquid feeding unit configured to feed the ozone water from the dissolving unit to the at least one processing chamber through a liquid feed line. La présente invention concerne un appareil de traitement de substrat qui peut fournir de l'eau ozonée, qui a une concentration en ozone stable, à un substrat; un procédé de traitement de substrat; et un support d'enregistrement lisible par ordinateur.　L'appareil de traitement de substrat comprend : une unité d'alimentation en ozone gazeux configurée pour fournir de l'ozone gazeux; une unité d'alimentation en liquide d'ajustement configurée pour fournir un liquide d'ajustement qui a une concentration proscrite en ions d'hydrogène; une unité de dissolution configurée pour dissoudre l'ozone gazeux dans le liquide d'ajustement, ainsi générant de l'eau ozonée; au moins une chambre de traitement configurée pour nettoyer un substrat avec l'eau ozonée; et une unité d'alimentation en liquide configurée pour fournir l'eau ozonée de l'unité de dissolution à la ou aux chambres de traitement par l'intermédiaire d'une conduite d'alimentation en liquide. 本開示は、安定したオゾン濃度のオゾン水を基板に供給することが可能な基板処理装置、基板処理方法及びコンピュータ読み取り可能な記録媒体を説明する。　基板処理装置は、オゾンガスを供給するように構成されたオゾンガス供給部と、所定の水素イオン濃度を示す調整液を供給するように構成された調整液供給部と、オゾンガスを調整液に溶解させてオゾン水を生成するように構成された溶解部と、オゾン水によって基板を洗浄処理するように構成された少なくとも一つの処理チャンバと、送液ラインを通じてオゾン水を溶解部から少なくとも一つの処理チャンバに送液するように構成された送液部とを備える。