FILM FORMING COMPOSITION, GLASS SUBSTRATE COATED WITH SAID FILM FORMING COMPOSITION, AND TOUCH PANEL OBTAINED USING SAID GLASS SUBSTRATE

• Main Authors: IKEDO, Keisuke, MATSUOKA, Yutaka, NAKANO, Tadashi, OKAMOTO, Katsutoshi
• Format: Patent
• Language: English; French; Japanese
• Published: 14.05.2020
• Subjects: ADHESIVES; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR; CALCULATING; CHEMICAL PAINT OR INK REMOVERS; CHEMISTRY; CINEMATOGRAPHY; COATING COMPOSITIONS, e.g. PAINTS, VARNISHES ORLACQUERS; COMPUTING; CORRECTING FLUIDS; COUNTING; DYES; ELECTRIC DIGITAL DATA PROCESSING; ELECTROGRAPHY; FILLING PASTES; HOLOGRAPHY; INKS; MATERIALS THEREFOR; METALLURGY; MISCELLANEOUS APPLICATIONS OF MATERIALS; MISCELLANEOUS COMPOSITIONS; NATURAL RESINS; ORIGINALS THEREFOR; PAINTS; PASTES OR SOLIDS FOR COLOURING OR PRINTING; PHOTOGRAPHY; PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES,e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTORDEVICES; PHYSICS; POLISHES; USE OF MATERIALS THEREFOR; WOODSTAINS

The purpose of the present invention is to provide a film forming composition which has excellent developability and stability during storage, and which, by forming a cured film thereof by coating, has excellent transparency and adhesion to a transparent substrate or an electrode, and has high insulating properties even in a thin film thereof. The present invention relates to a film forming composition characterized by containing a polysiloxane compound satisfying condition 1 below, a polythiol compound not including a silicon atom in the molecule thereof, a polymerization initiator, and an organic solvent. The following are included as materials constituting the polysiloxane compound: a silane-based compound (A) that is at least one compound selected from the group consisting of tetraalkoxysilane and bis(trialkoxysilyl)alkane; a silane-based compound (B) that is at least one compound selected from the group consisting of alkyltrialkoxysilane, dialkyldialkoxysilane, cycloalkyltrialkoxysilane, vinyltrialkoxysilane, and phenyltrialkoxysilane; and a silane-based compound (C) having a radical-polymerizable unsaturated double bond. Le but de la présente invention est de fournir une composition filmogène qui présente une excellente aptitude au développement et une excellente stabilité pendant le stockage, et qui, en formant un film durci correspondant par revêtement, présente une excellente transparence et une excellente adhérence à un substrat transparent ou à une électrode, et présente des propriétés isolantes élevées même dans un film mince correspondant. La présente invention concerne une composition filmogène caractérisée en ce qu'elle contient un composé polysiloxane satisfaisant à la condition 1 ci-dessous, un composé polythiol ne comprenant pas d'atome de silicium dans sa molécule, un initiateur de polymérisation et un solvant organique. Les éléments suivants sont inclus en tant que matériaux constituant le composé polysiloxane : un composé à base de silane (A) qui est au moins un composé choisi dans le groupe constitué par un tétraalcoxysilane et un bis(trialcoxysilyl)alcane ; un composé à base de silane (B) qui est au moins un composé choisi dans le groupe constitué par un alkyltrialcoxysilane, un dialkyldialcoxysilane, un cycloalkyltrialcoxysilane, un vinyltrialcoxysilane et un phényltrialcoxysilane ; et un composé à base de silane (C) ayant une double liaison insaturée polymérisable par voie radicalaire. 本発明は、保存の間の安定性及び現像性に優れ、塗工して硬化皮膜を形成することにより、透光性基板や電極との密着性及び透明性に優れ、薄膜でも高い絶縁性を有する皮膜形成用組成物を提供することを目的とする。 本発明は、下記の条件１を満足するポリシロキサン化合物、分子内にケイ素を含まないポリチオール化合物、重合開始剤及び有機溶剤を含有することを特徴とする皮膜形成用組成物に関する。上記ポリシロキサン化合物を構成する材料として、テトラアルコキシシラン及びビス（トリアルコキシシリル）アルカンの群から選択される少なくとも１種であるシラン系化合物（Ａ）と、アルキルトリアルコキシシラン、ジアルキルジアルコキシシラン、シクロアルキルトリアルコキシシラン、ビニルトリアルコキシシラン、フェニルトリアルコキシシランの群から選択される少なくとも１種であるシラン系化合物（Ｂ）と、ラジカル重合性不飽和二重結合を有するシラン系化合物（Ｃ）とを含む。