THREE-DIMENSIONAL SHAPE MEASURING METHOD AND THREE-DIMENSIONAL SHAPE MEASURING SYSTEM

In one exemplary embodiment, the three-dimensional shape measuring system (1000) according to the present invention is provided with: a preprocessing device (100) for forming a diffuse reflection layer (30) on the surface of a seal member (20) formed on the surface of a workpiece (10); and an interf...

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Main Authors ASADA, Naoki, ASANO, Hirofumi, SAEKI, Tetsuo, DANNOUE, Kenji, IKEOKU, Kenta
Format Patent
LanguageEnglish
French
Japanese
Published 23.04.2020
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Summary:In one exemplary embodiment, the three-dimensional shape measuring system (1000) according to the present invention is provided with: a preprocessing device (100) for forming a diffuse reflection layer (30) on the surface of a seal member (20) formed on the surface of a workpiece (10); and an interference measurement device (200) which, after splitting light radiated from a low-coherence light source into a measuring beam and a reference beam, irradiates the workpiece with the measuring beam, and then, on the basis of an interference beam between the reference beam and the measuring beam reflected from the workpiece, measures a three-dimensional shape of the seal member. Selon un mode de réalisation donné à titre d'exemple, le système de mesure de forme tridimensionnelle (1000) de l'invention comprend : un dispositif de prétraitement (100) pour former une couche de réflexion diffuse (30) sur la surface d'un élément d'étanchéité (20) formé sur la surface d'une pièce à travailler (10); et un dispositif de mesure d'interférence (200) qui, après division de la lumière émise par une source de lumière à faible cohérence en un faisceau de mesure et un faisceau de référence, irradie la pièce à travailler avec le faisceau de mesure, puis, sur la base d'un faisceau d'interférence agissant entre le faisceau de référence et le faisceau de mesure réfléchi par la pièce à travailler, mesure une forme tridimensionnelle de l'élément d'étanchéité. 本開示の三次元形状計測システム(1000)は、例示的な実施形態において、ワーク(10)の表面に形成されたシール部材(20)の表面に拡散反射層(30)を形成する前処理装置(100)と、低コヒーレンス光源から放射された光を測定光と参照光に分割した後、測定光でワークを照射し、ワークから反射された測定光と参照光との干渉光に基づいて、シール部材の三次元形状を計測する干渉計測装置(200)とを備える。
Bibliography:Application Number: WO2019JP39771