PLASMA TREATMENT DEVICE AND PLASMA TREATMENT METHOD

• Main Author: IWAO, Toshihiko
• Format: Patent
• Language: English; French; Japanese
• Published: 02.04.2020
• Subjects: BASIC ELECTRIC ELEMENTS; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; CHEMISTRY; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATIONOR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY IONIMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; COATING METALLIC MATERIAL; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; ELECTRIC SOLID STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; ELECTRICITY; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION INGENERAL; METALLURGY; PLASMA TECHNIQUE; PRODUCTION OF ACCELERATED ELECTRICALLY-CHARGED PARTICLES OR OFNEUTRONS; PRODUCTION OR ACCELERATION OF NEUTRAL MOLECULAR OR ATOMICBEAMS; SEMICONDUCTOR DEVICES; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THESURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION

The plasma treatment device is for treating a workpiece with plasma and has: a placement section on which the workpiece is placed; a waveguide unit for introducing plasma-generating electromagnetic waves of a VHF band into the plasma treatment device; and a dielectric window through which the electromagnetic waves introduced by the waveguide unit are transmitted to a plasma treatment space formed on the workpiece-placement side of the placement section. The dielectric window is an annular member disposed so as to face the plasma-treatment-space side of the placement section, wherein multiple convex parts projecting toward the placement section are formed on the placement-section side along a circumferential direction at equal intervals, with the circumferential width of the convex parts being 1/8 to 3/8 of the wavelength of the electromagnetic waves in the dielectric window. L'invention concerne un dispositif de traitement par plasma qui est destiné à traiter une pièce avec un plasma et comporte : une section de placement sur laquelle la pièce est placée ; une unité de guide d'ondes pour introduire des ondes électromagnétiques de génération de plasma d'une bande VHF dans le dispositif de traitement par plasma ; et une fenêtre diélectrique à travers laquelle les ondes électromagnétiques introduites par l'unité de guide d'ondes sont transmises à un espace de traitement par plasma formé côté placement de pièce de la section de placement. La fenêtre diélectrique est un organe annulaire disposé de façon à faire face au côté espace de traitement par plasma de la section de placement, de multiples parties convexes faisant saillie vers la section de placement étant formées côté section de placement le long d'une direction circonférentielle à intervalles égaux, la largeur circonférentielle des parties convexes étant de 1/8 à 3/8 de la longueur d'onde des ondes électromagnétiques dans la fenêtre diélectrique. 処理対象体をプラズマ処理するプラズマ処理装置であって、前記処理対象体が載置される載置部と、当該プラズマ処理装置内にプラズマ生成用のＶＨＦ帯の電磁波を導入する導波部と、前記導波部により導入された前記電磁波を、前記載置部の前記処理対象体載置側に形成されるプラズマ処理空間に透過させる誘電体窓と、を有し、前記誘電体窓は、前記載置部の前記プラズマ処理空間側と対向するように設けられた環状の部材であり、前記載置部の方向に突出する複数の凸部が周方向に沿って等間隔で並ぶように前記載置部側に形成され、前記凸部の周方向の幅は、前記誘電体窓内における前記電磁波の波長の１／８～３／８である。