CHEMICAL SOLUTION

• Main Authors: TAKAHASHI Satomi, TAKAHASHI Tomonori
• Format: Patent
• Language: English; French; Japanese
• Published: 19.03.2020
• Subjects: BASIC ELECTRIC ELEMENTS; ELECTRIC SOLID STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; ELECTRICITY; SEMICONDUCTOR DEVICES

The present invention provides a chemical solution having excellent organic residue inhibition properties and roughness inhibition properties. The chemical solution according to the present invention is used in production of a semiconductor device, and contains an oxidant and a solvent, wherein the chemical solution further contains one or more organic components selected from the group consisting of alkanes having 12-50 carbon atoms and alkenes having 12-50 carbon atoms, and the contained amount of the organic components is 0.10-1,000,000 ppt by mass with respect to the total mass of the chemical solution. La présente invention concerne une solution chimique ayant d'excellentes propriétés d'inhibition de résidus organiques et des propriétés d'inhibition de rugosité. La solution chimique selon la présente invention est utilisée dans la production d'un dispositif à semi-conducteur, et contient un oxydant et un solvant, la solution chimique contenant en outre un ou plusieurs composants organiques choisis dans le groupe constitué d'alcanes ayant de 12 à 50 atomes de carbone et d'alcènes ayant de 12 à 50 atomes de carbone, et la quantité contenue des composants organiques est de 0,10 à 1000000 ppt en masse par rapport à la masse totale de la solution chimique. 本発明は、有機残渣抑制性及びラフネス抑制性に優れた薬液を提供する。本発明の薬液は、酸化剤及び溶剤を含有する、半導体デバイスの製造に用いられる薬液であって、薬液は、更に、炭素数１２～５０のアルカン及び炭素数１２～５０のアルケンからなる群から選択される１種以上の有機成分を含有し、有機成分の含有量が、薬液の全質量に対して、０．１０～１，０００，０００質量ｐｐｔである。