MICROSTRUCTURE MANUFACTURING METHOD

• Main Authors: TANIGUCHI Yutaka, TANAKA Satoru
• Format: Patent
• Language: English; French; Japanese
• Published: 20.02.2020
• Subjects: AFTER-TREATMENT OF THE SHAPED PRODUCTS, e.g. REPAIRING; BASIC ELECTRIC ELEMENTS; ELECTRIC SOLID STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; ELECTRICITY; PERFORMING OPERATIONS; SEMICONDUCTOR DEVICES; SHAPING OF MATERIAL IN A PLASTIC STATE, NOT OTHERWISE PROVIDEDFOR; SHAPING OR JOINING OF PLASTICS; TRANSPORTING; WORKING OF PLASTICS; WORKING OF SUBSTANCES IN A PLASTIC STATE, IN GENERAL

The purpose of the present invention is to provide a microstructure manufacturing method with which it is possible to fabricate, at low cost and accurately, a microstructure that can be used as a large-area mold, or a microstructure for forming a large-area mold. A microstructure manufacturing method by which a plurality of unit microstructures 2 comprising an irregular pattern 21 are arranged adjacent to each other on a surface of a base material 1 comprises: an applying step of bringing a mold 4 having an inverted irregular pattern 41 obtained by inverting the irregular pattern 21 into contact with a stamp base 3 having formed a film 30 made of resin with a film thickness of not more than 200 nm, and applying a resin onto a surface of the mold 4; and a unit microstructure forming step of forming the unit microstructure 2 on a surface of the base material 1 by pressing the mold 4 onto the base material 1 and then demolding after the resin has been cured. The applying step and the unit microstructure forming step are repeated in this order for two or more times, and the unit microstructures 2 are arranged adjacent to each other at an interval of not more than 1 μm. L'objet de la présente invention est de fournir un procédé de fabrication de microstructure avec lequel il est possible de fabriquer, à faible coût et avec précision, une microstructure qui peut être utilisée en tant que moule à grande surface, ou une microstructure pour former un moule à grande surface. Un procédé de fabrication de microstructure par lequel une pluralité de microstructures unitaires 2 comprenant un motif irrégulier 21 sont disposées adjacentes les unes aux autres sur une surface d'un matériau de base 1 comprend : une étape d'application consistant à amener un moule 4 ayant un motif irrégulier inversé 41 obtenu par inversion du motif irrégulier 21 en contact avec une base de tampon 3 ayant formé un film 30 en résine ayant une épaisseur de film inférieure ou égale à 200 nm, et à appliquer une résine sur une surface du moule 4 ; et une étape de formation de microstructure unitaire consistant à former la microstructure unitaire 2 sur une surface du matériau de base 1 par pression du moule 4 sur le matériau de base 1 puis par démoulage après que la résine a été durcie. L'étape d'application et l'étape de formation de microstructure unitaire sont répétées dans cet ordre au moins deux fois, et les microstructures unitaires 2 sont disposées adjacentes les unes aux autres à un intervalle inférieur ou égal à 1 µm. 大面積のモールドとして使用できる微細構造体又は大面積のモールドを形成するための微細構造体を低価格で精度良く作製することができる微細構造体製造方法を提供することを目的とする。　凹凸パターン21からなる単位微細構造２を基材１の表面に複数隣接して配置する微細構造体製造方法において、膜厚が２００ｎｍ以下の樹脂からなる膜30が形成されたスタンプ台３に凹凸パターン21を反転させた反転凹凸パターン41を有する型４を接触させて、当該型４の表面に樹脂を塗布する塗布工程と、基材１に型４を押圧し、樹脂を硬化させた後に離型して、基材１の表面に単位微細構造２を形成する単位微細構造形成工程と、を有し、塗布工程と、単位微細構造形成工程をこの順番で２回以上繰り返して、単位微細構造２同士を１μｍ以下の間隔で隣接して配置する。