RICE PLANT PRODUCTION METHOD
[Problem] To provide a rice plant production method that uses atmospheric-pressure plasma to promote rice plant growth. [Solution] This rice plant production method has a plasma radiation step for radiating atmospheric-pressure plasma at a rice plant seed C1. Plasma generated by a plasma generation...
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Format | Patent |
Language | English French Japanese |
Published |
06.02.2020
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Summary: | [Problem] To provide a rice plant production method that uses atmospheric-pressure plasma to promote rice plant growth. [Solution] This rice plant production method has a plasma radiation step for radiating atmospheric-pressure plasma at a rice plant seed C1. Plasma generated by a plasma generation device P10 is directly radiated toward the embryo E1 of the rice plant seed C1. The plasma radiation step is executed during a water absorption step in which the rice plant seed C1 is made to absorb water, i.e., is executed before the rice plant seed C1 germinates.
Le problème est de fournir un procédé de production de plant de riz qui utilise un plasma à pression atmosphérique pour favoriser la croissance de plant de riz. La solution selon l'invention porte sur un procédé de production de plant de riz qui comporte une étape de rayonnement de plasma consistant à rayonner un plasma à pression atmosphérique au niveau d'une graine de plant de riz (C1). Le plasma généré par un dispositif de génération de plasma (P10) est directement rayonné vers l'embryon (E1) de la graine de plant de riz (C1). L'étape de rayonnement de plasma est exécutée pendant une étape d'absorption d'eau dans laquelle la graine de plant de riz (C1) est amenée à absorber de l'eau, c'est-à-dire, est exécutée avant la germination de la graine de plant de riz (C1).
【課題】 大気圧プラズマを用いてイネの成長を促進することを図ったイネの生産方法を提供することである。 【解決手段】 このイネの生産方法では、イネの種子C1に大気圧プラズマを照射するプラズマ照射工程を有する。プラズマ発生装置P10が発生させたプラズマをイネの種子C1の胚E1に向けて直接照射する。このプラズマ照射工程は、イネの種子C1に吸水させる吸水工程の途中で実施する。つまり、プラズマ照射工程を、イネの種子C1の発芽前に実施する。 |
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Bibliography: | Application Number: WO2019JP30643 |