MODIFICATION OF PARTICLES FOR ADDITIVE MANUFACTURING

Atomic Layer Deposition (ALD) and Molecular Layer Deposition (MLD) provide precise and conformal coatings that are employed to modify the properties of powders for additive manufacturing (AM). We have surprisingly discovered that use of a limited number of ALD cycles can impart improved flowability....

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Main Authors GUMP, Christopher, HIGGS, Daniel, SIMMONS, Wayne, NELSON, Paul, BARNES, John, BUECHLER, Karen
Format Patent
LanguageEnglish
French
Published 16.01.2020
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Summary:Atomic Layer Deposition (ALD) and Molecular Layer Deposition (MLD) provide precise and conformal coatings that are employed to modify the properties of powders for additive manufacturing (AM). We have surprisingly discovered that use of a limited number of ALD cycles can impart improved flowability. In various aspects, the coating may provide one or more advantages such as novel material properties, increased flowability, improved sintering, enhanced stability during storage, and prevention of premature sintering. Le dépôt de couche atomique (ALD) et le dépôt de couche moléculaire (MLD) fournissent des revêtements précis et conformes qui sont utilisés pour modifier les propriétés des poudres pour la fabrication additive (AM). Nous avons découvert de manière inattendue que l'utilisation d'un nombre limité de cycles de dépôt ALD peut conférer une aptitude au moulage améliorée. Selon divers aspects, le revêtement peut fournir au moins un avantage tel que de nouvelles propriétés de matériau, une aptitude au moulage accrue, un frittage amélioré, une stabilité améliorée pendant le stockage, et la prévention d'un frittage prématuré.
Bibliography:Application Number: WO2019US41089