SUBSTRATE, SELECTIVE METHOD FOR ACCUMULATING FILM ON METAL SURFACE REGION OF SUBSTRATE, ACCUMULATED FILM OF ORGANIC MATTER, AND ORGANIC MATTER

• Main Authors: SHINMEN, Masutaka, YAMAMOTO, Junki, MASUDA, Takashi, NADANO, Ryo, MIYAZAKI, Tatsuo
• Format: Patent
• Language: English; French; Japanese
• Published: 09.01.2020
• Subjects: CHEMICAL SURFACE TREATMENT; CHEMISTRY; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATIONOR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY IONIMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; COATING METALLIC MATERIAL; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION INGENERAL; METALLURGY; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THESURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION

This selective method for accumulating a film on a metal surface region of a substrate is characterized in that a film of organic matter represented by general formula (1) is selectively accumulated on a substrate having a structure in which both of a first surface region that includes metal and a second surface region that includes a non-metal inorganic material and/or a metal oxide are exposed, the film being accumulated to a greater extent in the first surface region than in the second surface region. (In general formula (1), N represents a nitrogen atom, and X represents an oxygen atom or a sulfur atom. R1 represents a C2-12 hydrocarbon group that may have a hetero atom or a halogen atom, and R2, R3, and R4 each independently represent a hydrogen atom or a C1-10 hydrocarbon group that may have a hetero atom or a halogen atom. In the case of a C3 or higher hydrocarbon group, a branched or cyclic hydrocarbon group is also included.) L'invention concerne un procédé sélectif pour accumuler d'un film sur une région de surface métallique d'un substrat qui est caractérisé en ce qu'un film de matière organique représenté par la formule générale (1) est sélectivement accumulé sur un substrat ayant une structure dans laquelle une première région de surface qui comprend un métal ainsi qu'une seconde région de surface qui comprend un matériau inorganique non métallique et/ou un oxyde métallique sont exposées, le film étant accumulé dans une plus large mesure dans la première région de surface que dans la seconde région de surface. (Dans la formule générale (1), N représente un atome d'azote, et X représente un atome d'oxygène ou un atome de soufre. R1 représente un groupe hydrocarboné en C2-12 qui peut contenir un hétéroatome ou un atome d'halogène, et R2, R3 et R4 représentent chacun indépendamment un atome d'hydrogène ou un groupe hydrocarboné en C1-10 qui peut contenir un hétéroatome ou un atome d'halogène. Dans le cas d'un groupe hydrocarboné en C3 ou plus, un groupe hydrocarboné ramifié ou cyclique est également compris.) 本開示の基板の金属表面領域への選択的な膜堆積方法は、金属を含む第一表面領域と、非金属無機材料及び／又は金属酸化物を含む第二表面領域とが両方とも露出した構造を持つ基板に対して、前記第二表面領域よりも前記第一表面領域に、下記一般式（１）で表される有機物の膜を選択的に堆積させることを特徴とする方法。 （一般式（１）において、Ｎは窒素原子であり、Ｘは酸素原子又は硫黄原子である。 Ｒ１は炭素数２～１２のヘテロ原子やハロゲン原子を有していてもよい炭化水素基であり、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４は、それぞれ独立して、水素原子又は炭素数１～１０の環やヘテロ原子やハロゲン原子を有していてもよい炭化水素基である。但し、前記炭化水素基は、炭素数が３以上の場合にあっては、分岐鎖あるいは環状構造の炭化水素基も含む。）