WAFER TILING METHOD TO FORM LARGE-AREA MOLD MASTER HAVING SUB-MICROMETER FEATURES

• Main Authors: PENG, Zhen, SOICHI, Emeline, VO, Sonny
• Format: Patent
• Language: English; French
• Published: 12.12.2019
• Subjects: APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR; CINEMATOGRAPHY; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; PHOTOGRAPHY; PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES,e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTORDEVICES; PHYSICS

A method of forming a large-area nanoimprint mold master is provided. The method comprises positioning a plurality of sub-master tiles on a rigid planar substrate. Each sub-master tile of the sub-master tile plurality has a nanoscale pattern and represents a subsection of the large-area nanoimprint mold master. The method further comprises adhering the plurality of sub-master tiles to the rigid planar substrate. The positioning determines a distance between a nanoscale feature of the nanoscale pattern on each sub-master tile of a pair of adjacent sub-master tiles. The distance has microscale positioning tolerance. Also provided are a large-area nanoimprint mold master and a method of large-area nanoimprint lithography. L'invention concerne un procédé de formation d'un moule maître de nano-impression à grande surface. Le procédé comprend le positionnement d'une pluralité de pavés sous-maîtres sur un substrat plan rigide. Chaque pavé sous-maître de la pluralité de pavés sous-maîtres possède un motif à échelle nanométrique et représente une sous-section du moule maître de nano-impression à grande surface. Le procédé consiste en outre à faire adhérer la pluralité de pavés sous-maîtres au substrat plan rigide. Le positionnement détermine une distance entre une caractéristique à échelle nanométrique du motif à échelle nanométrique situé sur chacun des pavés sous-maîtres d'une paire de pavés sous-maîtres adjacents. La distance possède une tolérance de positionnement à échelle micrométrique. L'invention concerne également un moule maître de nano-impression à grande surface et un procédé de lithographie par nano-impression à grande surface.